簡析日本電子帳簿等保存制度與電子資料真實性之確保
資訊工業策進會科技法律研究所
2024年03月29日
日本一般社團法人數位信任協議會於2024年3月15日以數位資料真實性確保的重要性及證明其真實性的時戳技術為題,舉行JDTF電子帳簿保存法解說研討會。研討會中由國稅廳課稅總括課解說電子帳簿保存法上與資料真實性相關的利用者需留意的要點,以及時戳技術的利用意義,並舉出具體的利用者事例作為介紹。
壹、事件摘要
日本電子帳簿等保存制度係指,稅法上等有保存必要的「帳簿」或是「收據、請求書等與國稅相關的文件」,非以紙本方式,而是以電子資料的形式保存的制度,此制度被區分為電子帳簿等保存、掃描保存及電子商業交易資料保存等3種制度[1]。
貳、重點說明
日本電子帳簿保存法於2022年的修法中,廢除電子帳簿等保存制度以及掃描保存制度的承認制度等[2],其中尤其值得關注的是電子商業交易的電子保存義務化。意即,自2022年起個人事業者或法人需要以符合特定要件的方式保存該電子商業交易資料。惟由於日本過往對於所接收的電子商業交易資料均以書面原本的形式進行保存,因此2022年的電子帳簿保存法修正案,雖將所接收的電子商業交易資料以電子資料的形式進行保存作為原則,但是由於許多公司尚無法應對電子資料的保存要求,故日本將2022年1月1日至2023年12月31日的2年間,作為電子商業交易資料保存的宥恕期間,在宥恕期間內無法滿足電子商業交易資料且有正當理由的公司,仍然可以將電子商業交易資料以書面的形式保存,並在稅務調查時將所保存的資料以書面形式提交給稅務機關[3]。日本電子帳簿保存法中所指之宥恕期間,係指自2022年起至2023年12月31日間,無法將電子商業交易資料以電子資料形式進行保存的企業,在符合特定之條件下,使其得繼續維持書面資料保存的期間。須留意宥恕期間僅有2年,公司或法人須於宥恕期間的2年內建立可以符合電子資料保存要件的環境整備。以下就2024年實施的日本電子帳簿3種制度進行說明。
一、電子帳簿等保存制度
對於自身最初透過電腦等製作的帳簿如會計軟體製作的入出帳等,或是與國稅相關的資料如透過電腦製作的請求書、決算書等,在符合具備系統相關資料如系統概要書或操作說明書、在保存場所具備電腦、程式、螢幕、印表機及其操作指南,並將記錄事項以畫面或書面的形式呈現,使其可以快速輸出,以及可以應對稅務職員基於質問檢查權的電子資料下載要求等的要件下,可以不以書面列印紙本的方式,而係以數位資料的形式保存的制度[4][5]。
二、掃描保存制度
決算相關資料以外的國稅相關資料,在符合輸入期間的限制、時戳的付與、版本管理、具備可讀取的裝置、可以快速輸出、具備系統概要書等,以及確保檢索機能等的要件下,能以手機或掃描機器掃描的電子資料形式取代該資料書面原本進行保存[6][7]。
三、電子商業交易資料保存制度
被課與所得稅申告或法人稅等帳簿、資料保存義務者,在處理訂單、契約書、收據、報價單、請求書等或與其相當的電子資料時,在確保真實性及可視性的要件下,需要保存該電子商業交易資料[8]。
電子商業交易資料保存制度中的確保真實性要件包含接收已付與時戳的資料、對所保存的資料付與時戳、不論是資料的接收還是保存,皆已可留存訂正刪除履歷或無法進行訂正刪除的系統進行,以及制定關於防止不正當訂正刪除的事務處理規則並依循。可視性要件則包含具備監控、操作說明書等資料以及具備充足的資料檢索要件[9]。
日本電子帳簿等保存制度雖區分為3種不同的制度,惟其中對個人事業者及法人具有強制效力的僅有電子商業交易資料保存制度,電子帳簿等保存制度及掃瞄保存制度則係設置誘因機制促使業者遵循,如電子帳簿等保存制度中創設其所保存的帳簿如符合訂正刪除履歷留存等「優良電子帳簿」的要件,則可減輕過少申告加算稅的稅金[10];掃描保存制度則讓企業可以透過手機或掃描機器將資料原本掃描成電子資料並以之取代書面紙本進行保存,減少企業保存書面資料的空間成本,同時亦可減低資料檢索時所需花費的時間與人力成本。
參、事件評析
日本電子帳簿保存法中對個人事業者與法人在保存電子商業交易資料時,課以確保電子資料真實性以及可視性的義務,並透過時戳技術的利用,確保個人事業者與法人可以達成電子資料真實性以及可視性的要求。
對於電子資料真實性的管理,我國資訊工業策進會科技法律研究所創意智財中心於2021年發布重要數位資料治理暨管理制度規範(下稱EDGS),協助企業管理內部重要數位資料。EDGS中亦肯認應保存電子資料的訂正刪除歷程,並以時戳技術及存證技術確保資料未經變更、刪除及竄改之真實性。我國企業如欲對自身的數位資料進行管理及存證等,可參考資訊工業策進會科技法律研究所創意智財中心所發布之EDGS建立資料管理流程,以降低數位資料管理相關風險。
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[1]国税庁,〈電子帳簿保存法の内容が改正されました〜 令和5年度税制改正による電子帳簿等保存制度の見直しの概要 〜〉,頁1(2023年),https://www.nta.go.jp/law/joho-zeikaishaku/sonota/jirei/pdf/0023003-082.pdf(最後閱覽日:2024/03/26)。
[2]〈税務手続の電子化に関する資料〉,財務省,https://www.mof.go.jp/tax_policy/summary/tins/i04.htm(最後閱覽日:2024/03/26)。
[3]国税庁,〈電子帳簿保存法一問一答【電子取引関係】〉,頁35(2022),https://www.nta.go.jp/law/joho-zeikaishaku/sonota/jirei/pdf/0021006-031_03.pdf(最後閱覽日:2024/03/26)。
[4]同註1。
[5]国税庁,〈はじめませんか、帳簿・書類のデータ保存(電子帳簿等保存)〉,頁1-2(2023),https://www.nta.go.jp/law/joho-zeikaishaku/sonota/jirei/tokusetsu/pdf/0023006-085_02.pdf(最後閱覽日:2024/03/26)。
[6]同註1。
[7]国税庁,〈はじめませんか、書類のスキャナ保存〉,頁1-2(2023),https://www.nta.go.jp/law/joho-zeikaishaku/sonota/jirei/tokusetsu/pdf/0023006-085_03.pdf(最後閱覽日:2024/03/26)。
[8]同註1。
[9]同註3,頁8。
[10]同註5,頁2。
美國專利商標局下之專利審查政策處(Office of Patent Examination Policy)於2016年11月2日發布了一份備忘錄(memorandum),就近來聯邦巡迴上訴法院所做之可專利性客體(subject matters eligibility, SME)相關判決為整理並對專利審查者提出若干指引。 該備忘錄表示,美國可專利性客體審查手冊(SME guideline,下稱SME審查手冊)自今年5月修改後,聯邦巡迴上訴法院陸續做出相關判決,因此除了先就相關事項為一整理,之後亦會依據這些判決所確立之一些原則以及專利之利益相關人(patent stake holders)之回饋意見對SME審查手冊進行修改。 此備忘錄主要討論的判決為McRO案以及BASCOM案,在此兩判決中,聯邦巡迴上訴法院均認為下級審法院錯誤地依Alice規則認定專利無效。在McRO案,法院認為有關利用電腦所執行之自動人臉語音同步之動畫系統(automatic lip synchronization and facial expression animation )之方法請求項係屬有效。審查者在適用Alice規則時應依據SME手冊的2階段步驟對請求項進行整體考量,且不應忽略請求項中許多特定要件,過度簡化請求項為抽象概念。其並指出「電腦相關技術之改良」,不僅止於電腦運作或是電腦網路本身,若是一些規則(rules)(主要為一些數理關係式(mathematical relationship))可以增進改善電腦之效能者亦屬之。 備忘錄另藉著BASCOM案提醒審查者,在決定請求項是否無效時,應考慮所有的請求項之元件(elements),以判斷該請求項是否已經具備實質超越(substantial more)一般常規、通用之元件(conventional elements)之要素。同時備忘錄並提醒審查者不應依據一些法院決定不做為先例之判決(nonprecedential decisions)之意見。
全球四大晶片業者共同研發奈米蝕刻技術世界四大電腦晶片業者決定與紐約州合作,在今後五年內出資 5.8億美元,研究發展下一代電腦微晶片製造技術。紐約州預定出資1.8億美元,美國IBM、超微半導體(AMD)、美光科技(Micron)與德國英飛凌預定各出五千萬美元的現金與設備,另2億美元由多家提供物料與設備的廠商提供。惟世界最大晶片廠商英特爾(Intel)並未參與此計畫,英特爾目前在x86微處理器市場中,占有銷售量的80%、銷售額的90%。 此國際奈米蝕刻事業( International Venture for Nanolithography, INVENT)計畫的基地,預定設在奧伯尼紐約州立大學奈米科學與工程學院,預期共有500多位研究人員、工程師與其他人員,投入此計畫。 奈米科技是研究分子與原子級的科學,此一計畫研究重心是利用光線,蝕刻大約頭髮直徑十萬分之一大小的電路,讓參與公司及早取得與學習應用研究出來的蝕刻工具。由於近年半導體速度與複雜性快速提高,晶片業者製造更小、更快晶片的難度增加,研究發展成本飛躍上升,業界體認到必須合作,才能負擔。一具蝕刻工具成本可能高達 2500萬美元,蝕刻工具進步攸關晶片廠商繼續縮小晶片規模,使每個晶片具有更多運算與儲存能力。目前生產的最先進晶片運用90奈米科技,晶片廠商希望從2006或2007年起,生產65奈米晶片。
新加坡個人資料保護法修正草案新加坡通訊及新聞部(Ministry of Communications and Information, MCI)與新加坡個人資料保護委員會(Personal Data Protection Commission, PDPC)於西元2020年5月14日至28日間針對其「個人資料保護法修正草案」進行民眾意見諮詢,總共收到87份回覆。綜合民眾回覆之意見後,同年10月5日,於議會提出了「個人資料保護法修正草案」,修正重點如下: 提高外洩個人資料者罰鍰金額,至該公司在新加坡年營業額10%或1000萬美元。MCI / PDPC說明,實際上於裁罰前會綜合考量個案事實與相關因素(如:嚴重性、可歸責性、影響狀況、組織有無採取任何措施減輕個資外洩造成的影響等),作為裁罰金額的判斷依據。此外,新加坡的個人資料保護法也加入了個資外洩通知義務,但與歐盟一般資料保護規範(General Data Protection Regulation, GDPR)仍有不同,例如:其多了評估是否通知的機制。 組織基於商業改善之目的,且遵守法定條件下,得未經同意使用個人資料,此處商業改善目的包含:(1)改善或加強提供之商品或服務,或開發新的商品或服務;(2)改善或發展新的營運方式;(3)瞭解客戶喜好;(4)客製化商品或服務所需。 在公司併購、重組、出售股份以及經營權轉讓等關於公司資產處置情形,得例外無需經當事人同意而蒐集、處理與利用個人資料。 新增資料可攜權相關規定。 處罰未經授權者處理個人資料之行為。針對民眾回覆之疑慮(認為草案內容不明確),MCI / PDPC說明預計在《法規與諮詢指南》中闡明有關授權行為的細節性規定,包含採取的形式。
從北京知識產權局裁定iPhone6停售看中國大陸外觀設計專利從北京知識產權局裁定iPhone6停售看中國大陸外觀設計專利 資策會科技法律研究所 法律研究員 翁竹霆 106年01月17日 中國大陸北京市知識產權局於2016年5月10日作成京知執字(2016)854-16號《專利侵權糾紛處理決定書》,依中國大陸佰利公司之請求,認定美國蘋果公司與中國大陸中復電訊設備公司在市面上銷售之iPhone6、iPhone6 plus侵害了佰利公司的外觀設計專利(專利號:ZL201430009113.9),北京市知識產權局依中國大陸專利法第60條:「未經專利權人許可,實施其專利,即侵犯其專利權,引起糾紛的,由當事人協商解決;不願協商或者協商不成的,專利權人或者利害關係人可以向人民法院起訴,也可以請求管理專利工作的部門處理。管理專利工作的部門處理時,認定侵權行為成立的,可以責令侵權人立即停止侵權行為…」,爰責令蘋果公司立即停止侵權行為,即停止銷售系爭兩款手機。 蘋果公司、中復公司對此停售決定不服,爰以北京市知識產權局為被告,佰利公司為有利害關係之第三人,依行政訴訟法向北京知識產權法院提起行政訴訟,要求法院撤銷該裁定,並宣告iPhone6系列手機之外觀設計並未落入佰利公司系爭專利之保護範圍。北京知識產權法院於2016年6月15日受理本案,並由三名法官、二名學者組成五人合議庭,於2016年12月7日進行公開審理,擇日宣判本案。 壹、外觀設計專利要件 中國大陸之外觀設計專利制度,目的在於鼓勵工業品外觀設計的創作。而據大陸專利法第2條第4項,所謂外觀設計乃指對產品的形狀、圖案或者其結合以及色彩與形狀、圖案的結合所作出的富有美感並適於工業應用的新設計。條文所揭「富有美感」,所體現的是ㄧ種美學設計,而非功能性或技術性的考慮[1] ,「適於工業應用」,亦即可供工業上大量生產之需要[2]。同法第59條第2項:「外觀設計專利的保護範圍以表示在圖片或者照片中的該產品的外觀設計為準,簡要說明可以用於解釋圖片或者照片所表示的該產品的外觀設計。」,意即外觀設計專利係對產品的外觀進行保護,故外觀專利之審查重點應在於整體外觀是否構成相同或近似。揆諸中國大陸專利法條文,外觀設計須滿足下列要件方可獲得專利法之保護: 一、適於工業應用 按中國大陸專利法第2條,外觀設計必須適於工業應用,此意義為外觀設計所對應之產品「能應用於產業上並形成批量生產」,且外觀設計必須應用於特定載體,如脫離特定載體之外觀設計,其專利將失其附麗,無法取得專利法之保護,又據中國大陸《專利審查指南》第1部分第3章:「不能重複生產的手工藝品、農產品、畜產品、自然物不能作為外觀設計的載體」,所謂載體,反面解釋上,應指可重複生產的產品。此要件限縮了外觀設計專利之保護範圍,如將相同的外觀設計移植到不相同、不近似的的產品上,並不侵害外觀設計專利[3]。 二、新穎性 此新穎性依中國大陸專利法第23條第1項,應指不屬於現有設計,亦沒有任何單位或個人就同樣的外觀設計在申請日之前向專利行政部門提出申請,並記載於申請日之後公告之專利文件。 三、區別性 中國大陸專利法第23條第2項:「授與專利權的外觀設計與現有設計或者現有設計特徵的組合相比,應當具有明顯區別」。此與台灣設計專利所採之創作性要件不同,創作性係以該設計所屬技藝領域中具有通常知識者為標準,區別性則是以一般消費者為標準,旨在使該設計市場上可被消費者有效區分,以符外觀設計保護之目的。 四、不予專利之消極要件 中國大陸專利法定有不予專利之消極要件,外觀設計如違反第5條有關公序良俗之規定,或符合第26條第1項第6款「對平面印刷品的圖案、色彩或者二者的結合作出的主要起標識作用的設計」,將無法通過審查,依法不授予專利。 貳、外觀設計專利侵權審查 從近年中國大陸在外觀設計專利的司法解釋和侵權實務認定上,可歸納出三個面向:一般消費者標準、整體觀察綜合判斷、整體視覺效果之影響。 一、「一般消費者標準」視產品種類而定 在發明專利、新型專利中,判斷一技術是否為現有技術、是否相同近似之審查是採該技術領域之熟練技術人員為標準,惟參中國大陸最高人民法院《關於審理侵犯專利權糾紛案件應用法律若干問題的解釋》第10條,人民法院在判斷系爭外觀設計專利是否相同或者近似時,是以一般消費者的知識水平和認知能力,亦即採一般消費者標準進行審查。學者更具體指出,ㄧ般消費者之知識水平和認知能力應與系爭外觀設計產品相關聯[4],換言之,係指該類產品領域之一般消費者,故所謂「一般消費者標準」應隨產品種類不同,而有所不同。 二、棄「要部判斷」,採「整體觀察、綜合判斷」 過去《專利審查指南》曾採「要部判斷」的方法,判斷外觀設計是否相同或近似,然於2006年修改《專利審查指南》時,放棄此法。理由在於,「要部判斷」過度強調局部設計,可能不適當的放大外觀設計專利保護範圍,且所謂「要部」是指容易引起ㄧ般消費者注意的部位,在選擇認定何為要部上充滿不確定性,使保護邊界更難清楚界定,使實務判斷者區別對待一項設計中的不同設計特徵[5],而流於恣意。目前判斷標準與方法,可見於中國大陸《專利審查指南》第4部分第5章:「外觀設計相同,是指涉案專利與對比設計是相同種類產品的外觀設計,並且涉案專利的全部外觀設計要素與對比設計的相應設計要素相同,其中外觀設計要素是指形狀、圖案以及色彩。」。所謂相同種類,依最高人民法院《關於審理侵犯專利權糾紛案件應用法律若干問題的解釋》第9條,可參考外觀設計的簡要說明、國際外觀設計分類表、產品功能及銷售等實際情況認定。是否相同或近似之判斷方法則採取「整體觀察、綜合判斷」,而不可從外觀設計的部分或局部得出判斷結論,此與發明專利中,需就系爭發明專利權利請求項之全部技術特徵一一比對有明顯不同。《專利審查指南》以冷暖空調扇為例,若冷暖空調扇的底面和背面設計不足以對產品整體視覺效果產生影響,則不對其進行整體觀察、綜合判斷,意即對於一般消費者不關注的設計特徵,審查時可以選擇性忽視。 三、整體視覺效果之影響 中國大陸最高人民法院《關於審理侵犯專利權糾紛案件應用法律若干問題的解釋》第11條第1項規定「人民法院認定外觀設計專利是否相同或者近似時,應當根據授權外觀設計、被訴侵權設計的設計特徵,以外觀設計的整體視覺效果進行綜合判斷;對於主要由技術功能決定的設計特徵以及對整體視覺效果不產生影響的產品的材料、內部結構等特徵,應當不予考慮。」,此與審查指南之判斷標準應為一致,僅是最高人民法院採用略有不同之表述[6]。法院實務中亦透過判決說明外觀設計專利侵權認定與ㄧ般專利侵權認定之不同,如成都雄峰家具有限公司訴黃興貴案:「本案中,被控侵權產品與原告的專利產品均為鞋櫃,屬於相同產品,從二者的外觀形狀特徵比較A、B、C、E、F、G分別與a、b、c、e、f、g相同,D與d相似,H與h雖然存在較大差異,但上述差異並不會影響鞋櫃整體的設計風格和樣式,對ㄧ般消費者的整體視覺效果不產生影響,因此,普通消費者對被控侵權產品與原告的外觀設計專利容易相互混淆。」[7],本案法院肯認設計特徵H和h存在較大差異,如依照ㄧ般專利侵權判斷方法,將無法認定專利侵權,惟依外觀設計專利所採之「整體觀察、綜合判斷」方法,在整體視覺效果無影響的情況下,依然可認定為專利侵權。 叄、本案認定 蘋果公司主張其產品與系爭專利存有極大差異,於六面視圖中均有體現。而北京市知產局則認為,經比對分析,蘋果公司系爭兩款手機與佰利公司推出之手機100C,雖然有一系列的差別,但其中圓形「home」鍵設計、側面按鍵形狀與布局、揚聲器孔與耳機插孔之排列方式等五個區別均為功能性設計,而從正面到背面的過度設計之區別屬一般消費者難以辨識之微小差異,應認二者無顯著區別,故iPhone6、iPhone6 plus落入佰利公司之專利權範圍。 北京市知產局主張外觀設計是ㄧ種美學設計,而非功能性之考慮,此原則經最高人民法院透過《關於審理侵犯專利權糾紛案件應用法律若干問題的解釋》第11條予以肯認,即侵權判斷過程中,對於功能性技術特徵,應不予考慮。且北京市知產局之侵權判斷方法與成都雄峰家具有限公司訴黃興貴案一致,係採「整體觀察、綜合判斷」,縱被控侵權產品之設計與系爭專利間存有局部的巨大差異,惟無影響整體視覺效果時,仍可認定為侵害系爭專利,構成侵權。 肆、結語 我國專利法第121條第1項對設計之定義指對物品之全部或部分之形狀、花紋、色彩或其結合,透過視覺訴求之創作。另於同條第2項將電腦圖像設計納入設計專利保護範圍,而中國大陸專利法並無直接規定圖像設計,而係於2014年規定在其《專利審查指南》第1部分第3章中,此為台灣設計專利與大陸外觀設計專利之規範差異,二者雖有不同,但在設計定義之概念相似,使兩岸之設計專利制度有趨向一同之趨勢。 在產品外觀設計的保護上,專利法與著作權法可能發生重疊適用的雙重保護,二者區別在於外觀設計專利有著產品載體的限制,而著作權著眼於思想創作的保護,具體附著於何種產品載體在所不問。中國大陸法院在樂高玩具案[8[中表示:作品雖已申請外觀設計專利,但並不妨礙同時或繼續得到著作權保護。此對於創作者之智慧財產可謂多重保障。 惟目前中、台在外觀設計專利之申請審查要件仍容有差異,除產業利用性、新穎性外,中國大陸外觀設計專利採區別性,台灣設計專利則採創作性,二者標準不同。由於中國大陸政府輔導當地公司專利申請的同時,會傾向做出有利於當地供應商的決定,期望可透過本文就中國大陸之外觀專利申請要件與侵權判定進行之介紹,提供我國業者在兩岸進行專利布局時參考之用。 [1] 崔國斌,《專利法:原理與案例》,北京大學出版社,頁898(2016)。 [2] 曾陳明汝、蔡明誠,《兩岸暨歐美專利法》,新學林出版股份有限公司,頁71(2009)。 [3] 同註1,頁899。 [4] 羅霞,《外觀設計專利相近似的司法判斷》,人民司法第13期,頁9(2012)。 [5] 崔國斌,《專利法:原理與案例》,北京大學出版社,頁933(2016)。 [6] 崔國斌,《專利法:原理與案例》,北京大學出版社,頁939(2016)。 [7] 成都雄峰家具有限公司訴黃興貴案,四川成都中院(2010)成民初字第191號。 [8] 英特萊格公司訴可高(天津)玩具有限公司案,北京高院(2002)高民終字第279號。