英國人工授精暨胚胎新法上路 冷凍胚胎保存規則丕變
英國2008年人工授精暨胚胎法（Human Fertilisation and Embryology Act 2008）關於胚胎保存之規範及其授權制定之附則（supplemental provision），於今年(2009)10月1日正式生效，大幅放寬胚胎保存的限制。依據舊法，胚胎保存之原則法定期間為5年，但基於醫學因素致胚胎為夫婦懷有具血緣關係（genetically-related）子女之最後機會，則胚胎保存期限可延長至10年，或最長可延至接受疾病治療婦女55歲。而新法則大幅放寬胚胎的保存期限至55年，並廢止上述接受疾病治療婦女僅能保存胚胎至55歲之規定。
這項管理胚胎保存的新法顯示了胚胎保存新舊法間的複雜性與爭議性，在法令生效前幾週因遭受法律質疑與遊說而做修正，由於先前由於新法放寬保存期限至55年的規定，僅適用於2004年10月1日後之保存胚胎，而在此之前的保存胚胎則僅限於不移植於代理孕母（surrogate）之胚胎始能延長保存期限，致遭到法律上不公平的質疑，並有向英國首相進行請願，而最終刪除上述限制。
但新法的問題並不僅於此，尚包括有婦女因在新法生效前屆滿55歲，使之前因接受子宮頸癌治療所保存的胚胎面臨被銷毀的命運，致有夫婦就此提起法律訴訟，質疑銷毀係爭胚胎有違反歐洲人權公約（European Convention on Human Rights）家庭生命權利之虞，並對面臨銷毀之胚胎提起假處分，使其胚胎暫時免除被銷毀的下場，然此項法律訴訟尚在進行，尚無從得知法院之決定。
因應生成式AI（Generative AI）快速發展，日本經產省和總務省彙整及更新自2017年起陸續發布之各項AI指引，於2024年1月19日共同公布「AI業者指引草案」（AI事業者ガイドライン案，以下簡稱指引），公開向民眾徵集意見。上述草案除提出AI業者應遵守以人為本、安全性、公平性、隱私保護、透明性、問責性、公平競爭、創新等共通性原則外，並進一步針對AI開發者（AI Developer）、AI提供者（AI Provider）及AI利用者（AI Business User）提出具體注意事項，簡述如下： （1）AI開發者：研發AI系統之業者。由於在開發階段設計或變更AI模型將影響後續使用，故指引認為開發者應事先採取可能對策，並在倫理和風險之間進行權衡，避免因重視正確性而侵害隱私或公平性，或因過度在意隱私保護而影響透明性。此外，開發者應盡量保留紀錄，以便於預期外事故發生時可以進行說明。 （2）AI提供者：向AI使用者或非業務上使用者提供AI系統、產品或服務之業者。提供者應以系統順利運作及正常使用為前提，提供AI系統和服務，並避免侵害利害關係人之利益。 （3）AI使用者：基於商業活動使用AI系統或服務之業者。使用者應於提供者所設定之範圍內使用AI，以最大限度發揮AI效益，提高業務效率及生產力。
從匯流看我國電信與廣播電視產業之法律規範 解析生技製藥研發成果涉及智慧財產保護之新課題 3D列印所涉法律議題3D列印（3D printing），屬於快速成形技術的一種，以數位模型檔案為基礎，運用粉末狀金屬或塑膠材料等可粘合材料，透過逐層堆疊累積的方式來構造物體的技術（即「積層造形法」）。過去其常在模具製造、工業設計等領域被用於製造模型。現在則可用於產品的直接製造，特別是一些高價值應用（比如髖關節或牙齒，或一些飛機零組件）已經有使用這種技術列印而成的零組件，技術漸漸成熟普及。 3D列印通常是採用數位技術材料印表機來製作。3D印表機的產量以及銷量2013年以來已經得到了極大的增長，其價格也正逐年下降，未來家家戶戶擁有3D列印機器可能就如同擁有洗衣機般平凡，帶出新的商機。該技術在珠寶、鞋類、工業設計、建築、工程和施工（AEC）、汽車、航空太空、牙科、醫療產業、教育、地理訊息系統、土木工程、槍枝以及其他領域都有所應用。 然而3D列印機器的普及只要透過網路平台下載相同的數據檔案，就能夠不花費一毛錢即可得到相同的內容，因此引發了智慧財產權的爭論。 3D列印所涉及的法律議題相當廣泛，有：著作權、專利權、商標權。再者，而在工商業等公司法領域，亦有可能可透過公平法加以保護。另外，專利法、新型專利法 （Gebrauchsmuster）、外觀設計法（Designrcht）對於實際上不能保密的技術解決方案和設計，例如，在產品具體化過程、在跨企業生產時、或物流遞送和服務提供過程中，在法律保護上，則重大意義。 又，在工業4.0因使用跨越國界之互聯網程序和系統，亟需國際法之保護，唯智慧財產權部分仍應該遵守屬地原則，以在該國有法律規定者為限。 在歐洲法律的層級，歐陸未來歐盟專利（EU-Patent）或稱歐洲專利一體化效果（Europäisches Patent mit einheitlicher Wirkung, EPeW） 將得到簡化，將具備共通的專利保護法律框架。