M2M時代下的資料保護權利之進展-歐盟與日本觀察

刊登期別
第25卷,第11期,2013年11月
 

本文為「經濟部產業技術司科技專案成果」

※ M2M時代下的資料保護權利之進展-歐盟與日本觀察, 資訊工業策進會科技法律研究所, https://stli.iii.org.tw/article-detail.aspx?d=6423&no=67&tp=1 (最後瀏覽日:2026/10/25)
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2016年中國大陸知識產權保護措施發展研析

2016年中國大陸知識產權保護措施發展研析 資策會科技法律研究所 法律研究員 王凱嵐 105年11月28日 一、 前言   中國大陸為提升知識產權保護、運用、流通,於2009年開始,由其國家知識產權局每年推出知識產權戰略實施推進計畫,確立年度執行目標。根據WIPO[1]於2015年所公布的年度《世界智慧財產權指標》報告,內容中提到中國大陸在專利、商標、工業品外觀設計等智慧財產權領域的申請量均位居世界第一。顯示中國大陸在知識產權上之發展,不僅制度與環境不斷成長進步,其知識產權[2]之國際地位亦快速提升。 中國大陸2016年的知識產權推進計畫[3]持續在「嚴格保護知識產權」、「加強知識產權創造運用」、「深化知識產權領域改革」、「加大知識產權對外合作交流」、「確實知識產權發展基礎」及「加強組織實施和保障」六大面向提出政策措施。其中許多政策措施皆與保護知識產權有關,顯見中國大陸認為創造友善環境及建立保障機制為其發展知識產權並提高產值的重要基盤,因此本文擬就其中有關知識產權保護之措施進行重點說明。 二、 知識產權保護政策重點 1. 提高侵權法定賠償   由於知識產權侵權案件中,權利被侵害之一方舉證困難,且過去案例賠償金額偏低,無法有效嚇阻侵權行為之發生,故在知識產權保護法治化上,加強侵權行為懲治力度被中國大陸視為必要手段。除加大侵權人之侵權行為懲治力度,提高侵權法定賠償上限外,並針對情節嚴重的惡意侵權行為實施懲罰性賠償。   過去中國大陸之專利、商標訴訟案件,權利人獲得之賠償金額整體偏低,因此間接助長違法之侵權行為。因此,早在2013年已先將商標侵權的法定賠償額由50萬元提高到300萬元,使法院在審判上有更大的裁量空間,較能達到嚇阻侵權之效果,故「提高法定賠償上限」將成為中國大陸相關知識產權立法之趨勢。 2. 強化職務發明權益保護   為加強知識產權保護,營造良好市場環境,現行中國大陸「專利法」、「著作權法」已建立職務發明之基本制度,惟在實踐上仍存有問題(如:時常發生申請案發明人為公司代表人)[4]。因此,中國大陸國家知識產權局(SIPO)於2014年3月提出「職務發明草案」[5](送審稿),內容對於發明創新的勞動者與資方間,於產出過程中所可能發生的法律議題及關係,以法律加以規範。   草案基於權利義務平衡及約定優先原則,勞資雙方得事先對於職務發明的報酬與權利歸屬等相關細節討論約定,而在當發生無法解決的狀況時(例如無契約約定或協議),始引用本職務發明條例之規定。草案規定公司若選擇透過技術祕密保護時,發明人可以請求補償;若是申請知識產權,發明人可以請求獎勵和報酬。在權利申請過程中,若公司放棄,則應先事先通知發明人,發明人可以與公司協商,並以發明人自身名義取得申請權或是其他權利。   關於最低保障原則,為避免資方不與勞方協議職務發明的歸屬約定狀況發生,草案中也明確訂定了最低的保障門檻,給予職務發明員工基本主張權利,讓資方不得忽視發明人在職務發明中的權利。當雙方未約定相關獎勵與報酬時,草案中規定以「月平均工資」為最低的計算標準,同時制訂四種報酬的計算方式,以供勞資雙方在爭議產生時,可以作為依循的準則。 3. 提升訴訟審判精準度   過去司法判決常有標準不一之疑慮,造成專利判決之不確定性,因此在2016年計畫中要求地方知識產權法院總結審判實踐經驗,發布司法解釋並統一司法裁量,確保法律正確適用和有效保護知識產權之規範依據。在專利侵權判定標準上,確立專利權保護之範圍,避免壓縮創新空間、損害創新能力及公共利益。   在審判制度上,建立司法鑒定、專家證人、技術調查等訴訟制度,鼓勵法律在專利等相關技術案件審判中,妥善利用陪審員、專家證人、專家諮詢、技術鑒定之功能,透過多種途徑和管道,有效解決專業技術事實認定之問題。有條件的發展更有效之調查方式及具體作法,使知識產權之審判能不斷提升準確度[6]。 三、 結論   中國大陸在「十三五」[7]時期樹立新的發展理念,擬藉由深化知識產權重點領域改革,加速建設知識產權強國與推動經濟轉型升級。從討論司法制度之大方向,到提高侵權賠償之上限額度等具體規範上,皆可觀察出中國大在整體知識產權保護規劃,是以有系統及縝密的分類交由不同單位部門執行,這足以顯現中國大陸對於知識產權發展其保護之重要性。   智慧財產權在產業研發與升級扮演關鍵核心的角色,因此我國於2012年由行政院核定「智財戰略綱領」,明確指出智財相關規劃發展項目(如管理、運用、人才培育)。然而侵權訴訟賠償金額偏低、專利無效率偏高、職務發明激勵不足,仍亦為尚待解決之議題。當前我國面臨經濟轉型與產業升級的問題,在保護面更應縝密思考如何透過法令強化職務發明人的權益保障,藉此提升其研發創造意願;改善所有人的訴訟勝訴率,提升權利持有的效益,讓智財成為我國經濟發展之強大動力。 [1]世界智慧財產權組織。 [2]「知識產權」為中國大陸用語,我國稱「智慧財產權」。 [3]計劃全名為《2016年深入實施國家知識產權戰略加快建設知識產權強國推進計畫》。 [4]北美智權,<中國大陸職務發明條例草案>,2013/01/03,http://www.naipo.com/portals/1/web_tw/Knowledge_Center/Laws/CN-50.htm (最後瀏覽日:2016/10/26) [5]中國大陸國家知識產權局,<職務發明條例制定>,2016/04/24,http://www.sipo.gov.cn/ztzl/ywzt/zlfjqssxzdscxg/xylzlfxg/201504/t20150424_1107558.html (最後瀏覽日:2016/10/12) [6]中國最高人民法院,<最高人民法院關於貫徹實施國家知識產權戰略若干問題的意見>,2010/04/14,http://zscq.court.gov.cn/znss/201004/t20100414_4107.html (最後瀏覽日:2016/09/20) [7]全稱是『中華人民共和國國民經濟和社會發展第十三個五年規劃綱要』,由習近平定調,也是中國大陸國家層級整體經濟與社會發展規劃之第十三個五年規劃(英文為five-year plan),規劃期間是從2016年至2020年。

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國際海事組織海事安全委員會決議於2025年前制定非強制性自駕船國際章程

  國際海事組織(International Maritime Organization,下稱IMO)於2022年4月20日至29日於線上召開為期9天的海事安全委員會(Maritime Safety Committee,下稱MSC)第105屆例會,會議重點係咸稱之自駕船——亦即海上自動化水面船舶(Maritime Autonomous Surface Ship,下稱MASS)之航行與操作規則。本屆會議總結並延續了MSC近年針對MASS的工作,包括2018年提出MASS實驗框架規範,以及2021年提出MASS法制框架評估等。本屆會議除了賡續規劃MASS的法制路線圖(Roadmap)外,鑒於船舶相關智慧科技快速發展,MSC決議於2025年之前,針對各級MASS制定非強制性(voluntary)之章程及規定後,蒐集各國的實務經驗與意見,再於2027年將其轉為強制性(mandatory)的規定,以於2028年生效並適用於IMO全體會員國。   部分會員國(例如日本)從造船技術出發,建議未來的MASS指南與規範內容應全面覆蓋船舶的設計、建造、系統、設備的功能要求。挪威則建議應按第103屆會議所盤點之法規,優先處理「人員」相關議題,包括船員、船長及遠端操作員的資格,以及當值與行為準則等。韓國則建議,即便是等級最高的全自駕船,亦不可能全面取代人為操作,因此MASS的法制應以「人機協同」為基礎,方能合乎SOLAS公約與IMO促進海上航行安全的目的及宗旨。最後,各國亦擬議將MASS規範優先適用於「貨船」,而非「客船」。本屆會議顯示IMO已加快MASS法制工作的進程並規劃具體之立法期程,我國除了在《無人載具科技創新實驗條例》建立的監理沙盒下已有兩件自駕船實驗案,未來勢必需要對接國際海事規範,航政機關實須提前因應及規劃。

美國國家標準及技術研究院公布晶片法補助申請細節及限制

美國商務部(Department of Commerce, DOC)旗下國家標準及技術研究院(National Institute of Standards and Technology, NIST)於2023年2月28日發布《晶片與科學法》(CHIPS and Science Act)補助具體內容,重點如下: 一、申請時間:補助採滾動式錄取模式(rolling basis),先進製程製造補助將於2023年3月31日起開放預先申請(pre-application)與正式申請(full application);成熟製程與其他相關生產設施的製造補助,將分別於2023年5月1日及6月26日開放預先申請及正式申請。 二、補助方式與金額:補助分為直接補助(direct funding)、聯邦政府貸款(federal loans)或第三人提供貸款並由聯邦政府提供擔保(federal guarantees of third-party loans)。直接補助的金額上限預計為預估資本支出的15%。每個計畫可透過一種以上之方式獲得補助,然整體補助金額不得超出預估資本支出的35%。 三、申請流程 1.意向聲明(statement of interest):申請人須提供半導體製造工廠投資計畫的簡要說明,俾利NIST旗下晶片計畫辦公室(CHIPS Program Office)為未來審查進行準備。 2.預先申請:申請人提供更詳盡的計畫內容。晶片計畫辦公室將給予調整意見。 3.正式申請:依照晶片計畫辦公室給予的意見修改後,申請人應遞交完整的計畫申請書,內容必須包含投資計畫的技術與經濟可行性之分析。晶片辦公室審核完畢後,會與申請人簽訂不具約束力的初步備忘錄(non-binding Preliminary Memorandum of Terms),記載補助方式與金額。 4.盡職調查(due diligence):在經過上述程序後,晶片計畫辦公室如認為申請人合理且可能(reasonably likely)取得補助,將對申請人進行盡職調查。 5.補助發放:通過盡職調查後,DOC將開始準備發放補助。 四、補助規範與限制 1.禁止買回庫藏股(stock buybacks):受補助者不得將補助款用於買回庫藏股。 2.人力資源計畫:申請人要求的補助金額若超過1億5千萬美元,須額外說明將如何提供員工可負擔且高品質的子女托育服務。 3.建造期限:受補助者必須於DOC所決定的特定日期(target dates)前開始或完成廠房建造,否則DOC會視情況決定是否收回補助。 4.分潤:補助金額超過1億5千萬美元時,受補助者須與美國政府分享超過申請計畫中所預估之收益,但最高不超過直接補助金額的75%。 5.不得於特定國家擴產與進行研究:受補助者於10年內或與DOC合意的期間內,除特定情況下(15 U.S.C. § 4652(a)(6)(C)),不得於特定國家,如中國,進行大規模半導體製造的擴產(material expansion)、聯合研究(joint research)或技術授權(technology licensing),違反者將會被DOC收回全額補助。

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