2019年2月13日,歐盟針對數位化單一市場著作權指令(Directive on Copyright in the Digital Single Market,2016/0280(COD))(下稱著作權指令)之爭議條款第11條及第13條進行討論修正,並達成共識。 從2016年9月,歐盟委員會提出修改新版著作權法,一直到去年9月12日,通過「著作權指令」法案,兩年多的改革過程始終產生多方爭議;其中,最具爭議性的有兩大條款:第11條「連結稅」(link tax),是要求網路平台業者在使用或摘錄其著作內容時,需向上傳的出版、新聞業者支付授權費用,對於Google、YouTube等網路巨擘易造成傳播新聞資訊的阻礙;而第13條「上傳過濾器」(upload filter),則是強調網路平台業者需負監督責任,防止上傳者侵權行為,現今流行的模仿搞笑影片、歌曲混音、翻唱影片等涉及部分著作權問題者,都有可能受到法規影響而大量減少。 近二十年以來,網路平台業者大多可以避免侵權責任,只要他們不知道上傳的內容侵權,並在發現侵權後立刻將內容移除。此次,著作權指令將加強規範於網路平台業者的行為,要求平台業者建立有效過濾機制,適當監督新聞傳播及熱門資訊之分享,並保護出版業、新聞業、文創產業等的著作權,且未來允許網路平台業者須支付授權費給著作權人。 此次修正的著作權指令法案,歐洲議會將預計於3月或4月進行投票,確認修法是否通過。 「本文同步刊登於TIPS網站(https://www.tips.org.tw )」
日本擬定GX基本方針草案致力實現綠色轉型日本岸田文雄總理於2022年7月成立「GX(グリーントランスフォーメーション,綠色轉型)實行會議」(GX実行会議),並於同年12月第5次召開「GX實行會議」,初擬《實現GX基本方針》草案,預計於國會提出相關法案,其內容主要有四個面向,本文摘述如下: 一、以能源穩定供應為前提 由於受到烏俄戰爭影響,導致能源短缺,為因應此一現況,日本將透過轉換製造業之原料及燃料,推動節能、並以再生能源作為主要電力來源。鑒於核電具有穩定輸出之特徵,將強化活用核電新措施,特別是將針對核電運轉年限部分進行修正。同時導入氫、氨之元素,用於發電、運輸、產業等領域,以提高自給率及應對可再生能源的輸出變動,有助於穩定供給。 二、成長型碳定價構想之執行 為了達成國際公約和強化日本產業競爭力,將採取以下措施: 1.為了綠色轉型,將於2023年發行規模約20兆日圓之GX經濟移行債(GX経済移行債,暫稱),作為前期GX投資之資金來源,將募集之資金優先投資於具備產業競爭力或經濟成長潛力、能削減排放量之企業為對象。 2.預計於2023年分階段試行碳排放交易,主要是由企業自行參與,根據排放量與發電效率,免費發放排放配額,再逐年減少配額。並於2028年導入賦課金制度(碳稅),針對化石燃料進口業者,先課以較低的稅,再逐漸增加。 三、拓展國際戰略 由於各國紛紛推出碳中和政策,日本有必要為世界的脫碳做出貢獻,故針對全球面向,將確立環保產品的國際評估標準方法,以及評估企業溫室氣體排放量之削减,建構相關減排制度。而針對亞洲部分,日本作為技術開發的領導者,則提供東南亞相關能源投資,活用國際協力銀行(JBIC)和日本出口和投資保險組織(NEXI)等進行公共的金融支援。 四、全體社會邁向GX 為協助化石燃料相關產業轉型成低碳產業,並確保在轉型過程中勞動力移動,將推動公正轉型,以保障國民生活,並針對中小企業一起推行GX,提供相關諮詢及排放量計算之節能診斷等措施,協助中小企業進行脫碳。
美國商務部產業安全局擴大對中國半導體製造設備、軟體工具、高頻記憶體等項目之出口管制.Pindent{text-indent: 2em;} .Noindent{margin-left: 2em;} .NoPindent{text-indent: 2em; margin-left: 2em;} .No2indent{margin-left: 3em;} .No2Pindent{text-indent: 2em; margin-left: 3em} .No3indent{margin-left: 4em;} .No3Pindent{text-indent: 2em; margin-left: 4em} 美國商務部產業安全局(Bureau of Industry and Security,簡稱BIS)於2024年12月2日發布《外國生產的直接產品規則補充以及先進運算及半導體製造項目管制精進》(Foreign-Produced Direct Product Rule Additions, and Refinements to Controls for Advanced Computing and Semiconductor Manufacturing Items),並於同日(12月2日)生效,部分管制措施的法律遵循延後至2024年12月31日。BIS開放公眾可以就本次管制提出意見。 因中國的半導體戰略旨在進一步推進中國的軍事現代化、大規模殺傷性武器(WMD)的發展,美國政府認為中國的相關政策與措施,將可能侵害美國及其友盟之國家安全。因此,本次管制之目的旨在進一步削弱中國生產先進節點半導體的能力,包括下一個世代的先進武器系統,以及具有重要軍事應用的人工智慧與先進運算。 為達上述目的,本次管制修正具體擴大的管制項目概述如下: 1. 24種半導體製造設備,包括某些蝕刻(etch)、沉積(deposition)、微影(lithography)、離子注入(ion implantation)、退火(annealing)、計量(metrology)和檢驗(inspection)以及清潔(cleaning)工具。 2. 3種用於開發或生產半導體的軟體工具。 3. 管制源自美國的高頻寬記憶體,以及於美國境外生產且美國管制清單中所列之高頻寬記憶體。 4. 新增對電子電腦輔助設計(Electronic Computer Aided Design)與技術電腦輔助設計(Technology Computer Aided Design)軟體及技術的限制。