化粧品含有醫療或毒劇藥品基準
一 化粧品不得使用下列各種原料配製： (一) 水銀及其化合物 (二) Bithionol (三) Dichlorophen (四) Halogeno-salicylanilide (五) Hydroquinone monobenzyl ether (六) Pilocarpine |
二 化粧品含安息香酸等防腐之製品，每 100公克之含量不得超過下列規 定：
種 類 含 量 Benzoic acid 0.2g
Benzoates 1 g
Chlorocresol 0.5g
Dehydroacetic acid and its saits 0.5g
Hexachlorophene 0.1g
Parahydroxybenzoic acid ester 1 g
Phenol 0.1g
Resorcin 0.1g
Salicylic acid 0.2g
Salicylates 1 g
Sorbic acid and its salts 0.5g
註：其他不屬本表所列者，得視各國實際使用情形及有關文獻審核
(Formaldehyde, Paraformaldehde 不得使用) 。
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三 含Alcohol 之製品： 每 100ml Alcohol中含methyl alcoho 不得超過 0.2ml
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四 化粧品製品中鉛、鎘、砷之含量不得超過下列規定： 鉛 20 ppm (但燙髮用劑為5 ppm)
鎘 20 ppm
砷 10 ppm (但燙髮用劑燙5 ppm)
＊但染髮劑中以醋酸鉛 (Lead acetate) 為原料者，其含鉛量之准用
基準為0.6％ (W/V) 以下 (75.02.25衛署藥字第 578892 號公告)
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中華民國九十六年七月十一日總統華總一義字第 09600088051 號令 修正公布第 87、93 條條文；並增訂第 97-1 條條文 第 87 條 有下列情形之一者，除本法另有規定外，視為侵害著作權或製版權： 一、以侵害著作人名譽之方法利用其著作者。 二、明知為侵害製版權之物而散布或意圖散布而公開陳列或持有者。 三、輸入未經著作財產權人或製版權人授權重製之重製物或製版物者。 四、未經著作財產權人同意而輸入著作原件或其重製物者。 五、以侵害電腦程式著作財產權之重製物作為營業之使用者。 六、明知為侵害著作財產權之物而以移轉所有權或出租以外之方式散布者 ，或明知為侵害著作財產權之物，意圖散布而公開陳列或持有者。 七、未經著作財產權人同意或授權，意圖供公眾透過網路公開傳輸或重製 他人著作，侵害著作財產權，對公眾提供可公開傳輸或重製著作之電 腦程式或其他技術，而受有利益者。 前項第七款之行為人，採取廣告或其他積極措施，教唆、誘使、煽惑、說 服公眾利用電腦程式或其他技術侵害著作財產權者，為具備該款之意圖。 第 93 條 有下列情形之一者，處二年以下有期徒刑、拘役，或科或併科新臺幣五十 萬元以下罰金： 一、侵害第十五條至第十七條規定之著作人格權者。 二、違反第七十條規定者。 三、以第八十七條第一項第一款、第三款、第五款或第六款方法之一侵害 他人之著作權者。但第九十一條之一第二項及第三項規定情形，不在 此限。 四、違反第八十七條第一項第七款規定者。 第 97-1 條 事業以公開傳輸之方法，犯第九十一條、第九十二條及第九十三條第四款 之罪，經法院判決有罪者，應即停止其行為；如不停止，且經主管機關邀 集專家學者及相關業者認定侵害情節重大，嚴重影響著作財產權人權益者 ，主管機關應限期一個月內改正，屆期不改正者，得命令停業或勒令歇業 。
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