日本名古屋地方法院(下稱法院)在2022年3月18日,對於被控訴違反《不正競爭防止法》的「愛知製鋼」前董事本蔵義信(下稱本蔵)等,宣判無罪。被告本蔵致力研發磁阻抗( Magnetic Impedance, MI)感測器,嗣後對於提高感測器性能及開拓市場等方向,與「愛知製鋼」意見分歧。故於2014年離職另成立マグネデザイン公司,翌年研究發現Giga Spin Rotation (GSR)原理,能製造更小且性能更高的感測器,並取得多項專利。
在2017年,原告「愛知製鋼」以被告本蔵等在2013年的會議中洩露營業秘密等為理由,提起告訴。經過兩次搜查,檢調發現相關會議筆記及白板照片等證據,故向法院提起公訴。法院指出在刑事程序,同樣適用民事上營業秘密法定構成要件,然而本案涉及的技術資訊,屬於工程上一般性、抽象性資訊,不符合秘密性要件。此外,法院認為原告「愛知製鋼」除未落實機密分級,在書面資料上標示「機密」外;且在保密期限屆滿後,亦未與生產商再簽署保密契約,難認為已採取合理保密措施,故不能認定被告本蔵等洩漏營業秘密。
雖然日本經濟產業省已明確指出刑事罰係針對違法性高的行為,且法院對於刑事訴訟的舉證程度,要求必須達到無合理懷疑。同時社會亦有輿論認為調查人員應慎重判斷,避免因不當提起訴訟,造成科學技術發展的負面影響。但在本案中,法院則強調營業秘密對於企業經濟活動的重要性極高,為避免因營業秘密侵害行為,致損害企業競爭力,故採取刑事保護的必要性,越發提高。綜上所述,若企業欲透過刑事罰,保護營業秘密,須採取更嚴謹的管理措施,始能確保藉由刑事訴訟程序,主張權利救濟。
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專研奈米科技領域的美國顧問諮詢公司 Lux Research and Foley & Lardner LLP 最近公布的一份報告( Nanotech IP Battles Worth Fighting )指出,美國商標專利局( US PTO )在去( 2005 )年共核發 4,996 個奈米技術領域的專利,雖然這個數字挺嚇人的,不過報告中也發現,過去一年取得奈米專利的成長率只有 4 %,比起更前一年( 2004 )的 20 %的成長率,少了許多。然報告指出, 取得奈米專利保護的成長趨緩並不表示投入這個領域的研究不夠,相反地,若從專利申請案的數字來看, 2005 年的申請案數字其實成長了 52 %。而 US PTO 奈米專利的核發率成長有限的原因,主要是因為申請人所主張的保護範圍交疊重複( overlapping claims ),使 US PTO 審查奈米專利所需的時間,相較於其他技術領域來得更長,平均而言,目前 US PTO 核發一項奈米專利所需的審查時間竟高達四年。 這項報告總共檢視了 2,738 個專利,涵蓋七類申請領域共計 52,148 個權利範圍的主張。報告總結,在電子領域中有關 carbon nanotube 及 quantum dot 之專利申請案,多數為脆弱的專利主張,有面臨法律訴訟的高度風險,若發生侵權訴訟,被告應該勇於進行訴訟防禦;而奈米材料由於市場潛力極大,故報告建議投入於專利搜尋或佈局之檢視,乃必要之成本。此外,報告也認為陶瓷奈米元件( ceramic nanoparticles )於能源領域的應用也極具發展潛力,並預期奈米電線( Nanowires )於電 子領域之應用將越來越受到重視。 不過,報告最後警告, patent trolls 的問題將會出現在奈米技術市場。所謂的 patent trolls 是指企業寧願花錢收購專利並透過授權收取權利金,也不願意自行投入研發的一種決策模式,此類企業通常是不負責實際商品交易的控股公司。
AuthenTec被控侵權勝訴Atmel 於2006年3月美國南加州地方法院對世界首屈一指的指紋辨識功能機器的供應商AuthenTec提出告訴,宣稱AuthenTec侵害Atmel兩項專利,今年五月五日法院的即決判決中確定AuthenTec的產品並未侵害Atmel的專利。 AuthenTec 副總裁兼法律顧問 Frederick Jorgensen表示:「從一開始被起訴,對於Atmel的指控,我們十分有信心公司的產品沒有侵權,也十分樂見此次法院的判決。我們相信我們的科技及智慧財產在市場居有領先的地位,為了保護這些資產,我們將會進行保護的措施。」 AuthenTec藉著指紋辨識器增加了很多資產,目前有超過三億個指紋辨識器運用在電腦、手機、PDA及門禁系統上。所有的指紋辨識器都是依據TruePrint的技術精確判斷指紋影像,TruePrint不僅僅可以辨識人類皮膚表層,還可以辨識皮膚表層以下,此項獨一無二的技術不論在任何時間或任何指紋下,都可準確的辨識任何人。目前AuthenTec的客戶包含宏碁、華碩、惠普、三星、LG等等。 除此案之外,AuthenTec尚有許多懸而未決的案子,在三月時,AuthenTec針對Atrua網站上所秀出的智慧型觸控面板手機,提出侵害AuthenTec指紋辨識技術的訴訟。
日本發布生成式AI智財保護及透明性守則日本發布生成式AI智財保護及透明性守則 資訊工業策進會科技法律研究所 2026年09月09日 近年隨各國生成式AI服務普及,技術訓練資料來源與智慧財產權保護問題益受權利人關注,如何在確保AI技術發展下,兼顧既有權利的保護,已成為AI治理的主要課題之一。日本此次針對生成式AI訓練資料之透明化,提出業者自主揭露、建立查詢機制、賦予訴訟中權利人與一般使用者請求揭露依據的實務操作具體規範,以完備透明揭露機制,確保權利人及使用者皆能於安全、安心之環境下利用生成式AI。 壹、事件摘要 日本知的財産戰略本部依日本《人工智慧相關技術之研究開發及活用推進法》(令和7年法律第53號)之意旨,運用「遵循或解釋」之運作方式,於2026年8月25日公布《生成AIの適切な利活用等に向けた知的財産の保護及び透明性に関するプリンシプル・コード》[1](生成式AI適切利活用等相關知的財產保護及透明性守則,下稱本守則)。本守則為自願性質,要求生成式AI開發者及提供者就模型使用、學習資料及當責性等事項進行透明化揭露,並就智慧財產權保護措施揭示所採措施;並賦予權利人與一般生成式AI生成物使用人得於符合一定要件下,向生成式AI事業者請求揭露特定比對資訊之權利。內閣府另行公布「概要開示対象事項 具体例」供各揭露事項之記載程度的具體參照[2]。 貳、重點說明 一、適用對象包括開發者、提供者、權利人、使用人等利害關係人 本守則適用對象包括「生成式AI開發者」及「生成式AI提供者」(以下合稱生成式AI「事業者」)。但適用範圍並不包括非對公眾提供生成式AI之對象,例如:僅承接開發過程一部分工作、將成果交付予開發者之受託人;僅從事研究而未對公眾提供者;僅利用單一法人或個人資料特化建構、且僅供該資料提供者使用之系統;僅供特定企業集團或團體內部使用之專用系統。於日本境內未設本店或主要事務所之國外事業者,如向日本提供其服務,仍應適用本守則。 二、採「遵循或解釋」官方公開揭示的運作機制 事業者應於公司網站公開受採用表明、公開各原則之實施事項(即「遵循」),事業者就個別情況認為不適當之原則,得說明不實施理由後不予實施(即「解釋」),但說明應力求使使用者及權利人獲得充分理解。就「解釋」之認定基準,本守則規定僅陳述尚未建立實施體制,不足以構成「解釋」,應依事業規模等因素說明體制建置完成之時期;已提出必要依據,證明依本原則揭露於技術上不可行者,可視為已完成「解釋」。 為使受採用狀況可視化(公開揭示),上開事項應依內閣府所定格式提出申報,原則上每年至少檢視、更新一次。內閣府將製作「遵循或解釋」相關參考格式,並公開已申報事業者清單及其公司網站連結,惟不就申報內容進行審查,對於第三人之查詢等亦不予回覆。 三、透明性確保措施 本守則要求事業者應揭露之透明性事項分為模型使用、學習資料、當責三大類,應揭露的項目包括: (一) 使用模型相關事項:名稱(識別碼、版本等)、含公開日期在內之沿革(過去版本或修正紀錄)、架構與設計規格(含第三人授權狀況、使用所需之硬體軟體及授權)、使用規範(預設用途,及限制、禁止用途之明確化),以及模型訓練過程之內容(訓練方法等)。 (二) 學習資料相關事項:訓練及驗證等所用資料之種類(含RAG使用之資料)、網路爬取或自第三人取得之非公開資料集相關事項、公開資料集相關事項、以其他方式蒐集之資料相關事項、合成資料之使用有無及目的,以及爬蟲程式之目的、資料蒐集期間、名稱與識別碼,是否使用第三人爬蟲程式及其名稱、識別碼。 (三) 當責相關事項:開發、提供、使用過程中決策之可追蹤、回溯狀態,可追溯性之提升、負責人之明示、相關人員責任之分配、對利害關係人之具體因應,以及文書化。 四、智慧財產權保護措施之揭露 本守則要求事業者採取下列智慧財產權保護措施: (一) 建立智慧財產保護制度:訂定智慧財產權保護原則、明確化責任體制,每年至少檢視一次並對外公開要旨;對訓練所得之紀錄保存一定期間 (二) 合法進行訓練資料取得:資料活用(含開發、學習)不侵害他人智慧財產權;採用遵循付費牆等存取限制及robots.txt等機器可讀指示之爬蟲程式,並就各使用者代理逐一公開上開措施,且於變更時通知 (三) 盡可能採取侵權防免措施:包括致力於避免對盜版網站進行爬取;採取防止生成侵害智慧財產權之生成物之技術性措施;採取電子浮水印、C2PA等可證明內容出處及沿革之技術性措施;對使用者周知不應利用有侵權疑慮之生成物 (四) 整備權利人適時適當救濟之窗口:明確化申訴要件,並保存因應紀錄。 五、使用者、權利人及其受委任律師或代理人均可依一定程序請求揭露 賦予使用者、權利人(及其受委任律師或代理人)兩類主體得向生成式AI事業者請求揭露特定資訊之權利,以供使用者確認其所用AI是否使用特定著作為訓練資料,或權利人確認相同或近似的著作被事業者納入AI成為訓練資料。二者程序架構相同,均得請求揭露訓練驗證資料(指透過網路爬取或自第三人取得之非公開資料集、公開資料集、含合成資料在內之資料集,或以其他方式蒐集之資料,惟不以此為限),但因訴訟、聲請調解、聲請訴訟外紛爭解決程序(ADR)或其他法律程序而有必要之權利人,及其受委任律師或代理人,可請求查證的是自行查詢之URL[3];一般使用者則可以請求查證的係是否含有與其所生成之生成物相同或近似內容[4]。相關請求須具備三項要件: (一) 足認具備請求資格之理由,即權利人及其受委任律師或代理人須說明具備訴訟等程序資格之事由,而一般使用者則須提出生成物及所用提示詞; (二) 明示利用目的並承諾不作目的外使用,權利人及其受委任律師或代理人並須進一步承諾不將回覆轉作嗣後提起訴訟、調解或ADR之用; (三) 說明請求揭露理由與參照(可供查證的)資訊。 依請求人身分於適用程序上略有區別,並均以「生成式AI事業者容易存取及確認者為限」為限。 參、事件評析 我國《人工智慧基本法》第4條第5款規定,政府推動人工智慧研發應用應遵循「透明與可解釋」原則,人工智慧產出應做適當資訊揭露或標記;第5條第2項規定,經中央目的事業主管機關會商數位發展部認定為高風險應用者,應明確標示注意事項或警語;第16條第2項則規定,各目的事業主管機關應協助相關產業自行訂定產業指引及行為規範。日本此次公布的守則所建構之透明化與揭露請求機制,本文認為具有下列可參考之處: 一、機關不須立於審查、承責之角色,但有法律效力時須以第三方驗證機制配套 本守則明示透明化效果繫於業者自主誠信履行,明文規定日本內閣府對業者申報內容不進行審查,且對第三人查詢亦不予回覆,此一設計使主管機關毋須承擔審查責任,僅提供申報格式與公開清單之行政協助角色,殊值承受責任壓力的行政機關參考。但若將來將類似遵循或解釋機制提升為具法律效力之規範,應同時建立第三方驗證機制,例如由主管機關或指定機構就業者申報內容進行抽查或複核,藉公眾審查與問責機制,對業者形成遵循與誠信申報之壓力,避免僅以業者單方陳述作為唯一依據。 二、軟法指引須深化至具體記載程度,始能發揮引導效果 本守則另有由內閣府公布「概要開示対象事項 具体例」,就各事項應揭露之記載程度提供具體範例,顯示軟法之引導效果,繫於指引深化之程度,僅列原則性事項而未進一步定明記載程度或格式範例者,業者實務操作易生歧異,透明化效果亦難以彰顯。我國《人工智慧基本法》第4條第5款及第16條第2項就透明化及產業行為規範,除應有相關指引外亦宜向下展開實作之基準或格式範例,以利軟法引導機制發揮實效。 三、軟法之表態不限於正面列舉,亦應及於未能遵循之說明義務 本守則就「解釋」特別指出,僅陳述尚未建立實施體制,不構成解釋,須進一步依事業規模等因素說明體制建置完成之時期,或提出必要依據證明依本原則揭露於技術上不可行者,始視為已完成解釋。此一設計顯示,透明化義務之履行不僅止於正面陳報遵循程度,亦及於未能遵循時具體說明理由及依據之義務。類此規範模式可運用於著作合理使用之指引,透過反向說明那些無法被認同屬合理使用的情況,間接明確可主張合理使用的應備條件,降低不確定的模糊空間。 四、達成透明化目的應併用揭露與標記 我國《人工智慧基本法》第4條第5款規定人工智慧產出「應做適當資訊揭露或標記」,然於日本此守則中可見諸透明性揭露事項與智慧財產權保護措施中電子浮水印、C2PA等技術性措施併陳,顯示揭露與標記於功能上有別。揭露解決使查閱者得知資訊內容之問題,標記則解決生成物本身出處可辨識、可追溯之問題,二者併存運用可兼顧事前資訊公開與事後來源查核。我國後續訂定操作規範時,宜避免將兩者理解為得擇一履行之選項。 五、智慧財產權保護措施屬事業者應建立之基本管理制度 本守則所列智慧財產權保護措施九項事項,包括保護原則之訂定與責任體制之明確化、遵循付費牆及機器可讀指示之爬蟲政策、訓練紀錄之保存、技術性防護措施之採行,以及權利人救濟窗口之整備等,其性質應定位為生成式AI事業者於資料蒐集、模型訓練及生成物提供各階段應建立之基本管理制度,我國將來訂定之產業AI應用指引,可參採納入事業者內部治理應具備之基礎架構,而非僅為對外揭露之事項。 本文為資策會科法所創智中心完成之著作,非經同意或授權,不得為轉載、公開播送、公開傳輸、改作或重製等利用行為。 本文同步刊登於TIPS網站(https://www.tips.org.tw) [1]知的財産戦略本部,〈生成AIの適切な利活用等に向けた知的財産の保護及び透明性に関するプリンシプル・コード〉,2026年8月25日,https://www.cas.go.jp/jp/seisakukaigi/titeki2/ai_kentoukai/kaisai/pdf/ai_principle_code.pdf(最後瀏覽日:2026年9月8日)。 [2]内閣府知的財産戦略推進事務局,〈概要開示対象事項 具体例〉,2026年8月25日,https://www.cas.go.jp/jp/seisakukaigi/titeki2/ai_kentoukai/kaisai/pdf/ai_principle_code_gutairei.pdf(最後瀏覽日:2026年9月8日)。 [3] 例如自行創作作品並刊載於網站A之人,如發現與該作品相同或近似之生成式AI生成物,得向生成式AI事業者出示該網站A作品刊載頁面之URL,就該網域是否列入爬蟲程式之爬取對象、是否列入自第三人取得之訓練資料來源等事項請求揭露。 [4] 例如AI使用者發現其用生成式AI的生成物,有相同或近似之內容刊載於網站B,得向提供生成式AI服務A之生成式AI提供者出示該生成式AI生成物、生成該生成物時所使用之提示詞、該生成物之利用目的及網站B之URL,就該URL之網域部分是否列入生成式AI服務A所搭載生成式AI系統開發時訓練資料之爬取對象、是否列入自第三人取得之訓練資料來源等事項。
何謂「美國專利審理暨訴願委員會(PTAB)」?專利審理暨訴願委員會(Patent Trial and Appeal Board, PTAB)成立於2012年9月16號。其成立之法源為《美國發明法案》(Leahy-Smith America Invents Act, AIA),承接「專利訴願暨衝突委員會」(Board of Patent Appeals and Interferences, BPAI)事務,成為美國專利商標局(United States Patent and Trademark Office,USPTO)下轄職司專利審理與訴願等相關程序的組織。PTAB主要可以分成「專利審理部門」(Trials)和「專利訴願部門」(Appeals)。 「專利審理部門」處理有爭議的案件,囊括四種處理方式: 專利授予後複審(Post-Grant Review, PGR) 除了專利所有權人的任何人,可以在專利公告或發證後9個月內提出,惟之前不得就專利無效提出訴訟。無效理由只要一項請求不具專利性即可,不需要是實質新問題(Substantial New Questions, SNQ)。但不可匿名,需揭露實質利益關係人。 多方複審程序(Inter Partes Review, IPR) 在發證後9個月後才可提出,且必須是PGR終結後、提出確認之訴(Declaratory Judgment)之前、或被控侵權的1年內提出申請。且僅能以核准專利及公開文獻作為證據。 含商業方法專利的過渡性方案(Transitional Program for Covered Business Method Patents, CBM) 這是對所授予的商業方法專利的過渡型條款,將商業先使用抗辯(Prior Commercial Use Defense)擴大適用到所有專利的商業使用行為,不再侷限在方法專利。IPR、CBM類似於我國的舉發制度,只是 CBM 僅能就商業方法專利提出。 申請人/發明人調查程序(Derivation Proceedings) 以往發明人身分爭議多仍以訴訟解決,原因之一為,過去程序係釐清誰先想到該構想或實踐該構想而非釐清原創者為誰。申請人調查程序將俾利身分的釐清。 「專利訴願部門」則是由超過一百位專利行政法官(Administrative Patent Judges)所組成,處理與被駁回專利申請相關的訴願。按 35 U.S.C. § 141(a),訴願人可以就PTAB的訴願結果,向美國聯邦上訴法院(United States Court of Appeals for the Federal Circuit, CAFC)提起訴訟;後續,可就聯邦上訴法院之判決,再上訴至最高法院(Supreme Court)。