英國Patent Box租稅優惠政策
科技法律研究所
2014年03月25日
壹、政策背景
歐盟在2000年規劃的里斯本策略[1],就創造工作機會與保障勞工權益方面積極作為,驅使歐盟各國稅法改革,成功使歐盟在國際上擁有強大稅制上競爭力。而後法國、匈牙利、盧森堡、比利時、荷蘭、西班牙等國家,先後就研發活動施行優惠稅制,更強化其研發活動創造、發展的誘因。
2011年英國政府成長計畫[2]檢討近10年來,各國降低稅率、打破貿易壁壘、培育專家人才,同時英國經濟疲弱,負債且競爭力下降。因此英國政府在計畫中提出要建立G20[3]中最具競爭力之稅制。在不願與其他國家進行稅金削價競爭下,英國政府決定自專利著手,認為專利與高科技研究發展最具關連性,且專利本身已具完備審查機制,於是以專利獲利為主的優惠稅制逐步成形,稱為Patent Box,2011年6月英國財政局HMRC廣納各界意見,並在2012年Finance Act修法草案第8A章節提出。
對於Patent Box的設計,英國政府提出幾個原則:首先為不造成企業困擾,Patent Box必須為自願性參加;並且2013年4月起,為來自專利的獲利提供10%的優惠稅率;專利獲利之計算應避免為企業製造不必要的行政成本;不以總收入計算而以淨獲利計算;鼓勵持續研發等。
貳、政策方針
一、政策目的
英國政府早期對法人的租稅獎勵,係針對中小法人購置網際網路軟硬體設備、研發相關費用等,提供100%當年度投資抵免的獎勵;而為促進法人進行科學技術研究,2000年開始提供中小法人投入研發投資抵減獎勵,2002年擴及於大法人亦得適用,但抵減率降為25%。
英國政府為了鼓勵法人將高值專利與其運用發展紮根國內,以法人稅(Corporation Tax)角度出發,提議租稅優惠方案「Patent Box」。政府認為此方案能夠提供國內法人額外動機,將高價值工作與專利相關生產活動留在國內,並強化英國法人目前在全球的高值研發能量。
此方案由工黨政府提出,但直到2010年11月保守黨政府執政時,才將之納入執政提議政策,隔年6月與幕僚單位諮詢相關立法細節與範圍後,迅速於同年12月擬出草案。2012年7月,Patent Box方案經皇家同意被納入「法人稅法(the 2010 Corporation Taxes Act)」之修法法案「財政法(the 2012 Finance Act)」之中。2013年4月起,英國法人若透過自主研發或委託研發所產生之專利而賺取之收入,法人稅可由原本的20~24%(2013年4月法人稅為23%),調降適用10%的優惠稅率。
此方案的推出,一部份原因為產業界輿論稱英國原租稅制度使法人逐漸喪失競爭力;而之所以將租稅優惠鎖定為專利權(與特定植物品種權),係因為專利權與高科技研發生產具有很強的鍊結,並且專利權本身的審核制度更已為Patent Box方案挑選出真正的創新科技發明。
二、Patent Box 優惠稅制影響評估
(一)英國國庫
英國Patent Box採逐步調降稅率之實施方式,以減輕對國庫的負擔,2013年以獲利的60%適用Patent Box 10%的優惠法人稅稅率,之後隔年增加10%,直至2017年4月1日,100%獲利適用10%之優惠法人稅稅率。而HMRC預算預估之英國專利獲利金額,係以其資料庫為基礎推算之。
(二)英國法人
調降法人稅對英國法人而言,也降低了將相關專利獲利移出境外之動機;此外,對於未申請專利者,Patent Box更增加其申請的動機,繼而提高發明之價值。
對於中小型法人而言,此方案可使其檢視自身專利布局,但對於未接觸過專利想加入此方案者,會增加該些中小型法人之相關行政成本,但Patent Box一產品僅須具一專利之設計,可減輕對此類法人之負擔調降法人稅對英國法人而言,也降低了將相關專利獲利移出境外之動機;此外,對於未申請專利者,Patent Box更增加其申請的動機,繼而提高發明之價值。
對於中小型法人而言,此方案可使其檢視自身專利布局,但對於未接觸過專利想加入此方案者,會增加該些中小型法人之相關行政成本,但Patent Box一產品僅須具一專利之設計,可減輕對此類法人之負擔。
(三)英國經濟
由專利獲利的法人可受惠於此方案,尤其是醫藥、生技、電子、國防等產業。Patent Box方案更可吸引國外創投資金,增進國內經濟並增加高值工作機會。
[1]Directorate-General for International Policies - Policy Department, The Lisbon Strategy 2000-2010, European Parliament (2011), http://www.europarl.europa.eu/document/activities/cont/201107/20110718ATT24270/20110718ATT24270EN.pdf (last visited, Feb 19, 2014)
[2]HM Treasury, The Plan for Growth, March 2011, https://www.gov.uk/government/uploads/system/uploads/attachment_data/file/31584/2011budget_growth.pdf (last visited, Feb 11, 2014)
[3]G20,一個國際經濟合作論壇,由八國集團(美國、日本、德國、法國、英國、義大利、加拿大和俄羅斯)以及其餘十二個重要經濟體(歐盟、中華人民共和國、巴西、印度、澳大利亞、墨西哥、韓國、土耳其、印尼、沙烏地阿拉伯、阿根廷和南非)組成。
.Pindent{text-indent: 2em;} .Noindent{margin-left: 2em;} .NoPindent{text-indent: 2em; margin-left: 2em;} .No2indent{margin-left: 3em;} .No2Pindent{text-indent: 2em; margin-left: 3em} .No3indent{margin-left: 4em;} .No3Pindent{text-indent: 2em; margin-left: 4em} 美國商務部產業安全局(Bureau of Industry and Security,簡稱BIS)於2024年12月2日發布《外國生產的直接產品規則補充以及先進運算及半導體製造項目管制精進》(Foreign-Produced Direct Product Rule Additions, and Refinements to Controls for Advanced Computing and Semiconductor Manufacturing Items),並於同日(12月2日)生效,部分管制措施的法律遵循延後至2024年12月31日。BIS開放公眾可以就本次管制提出意見。 因中國的半導體戰略旨在進一步推進中國的軍事現代化、大規模殺傷性武器(WMD)的發展,美國政府認為中國的相關政策與措施,將可能侵害美國及其友盟之國家安全。因此,本次管制之目的旨在進一步削弱中國生產先進節點半導體的能力,包括下一個世代的先進武器系統,以及具有重要軍事應用的人工智慧與先進運算。 為達上述目的,本次管制修正具體擴大的管制項目概述如下: 1. 24種半導體製造設備,包括某些蝕刻(etch)、沉積(deposition)、微影(lithography)、離子注入(ion implantation)、退火(annealing)、計量(metrology)和檢驗(inspection)以及清潔(cleaning)工具。 2. 3種用於開發或生產半導體的軟體工具。 3. 管制源自美國的高頻寬記憶體,以及於美國境外生產且美國管制清單中所列之高頻寬記憶體。 4. 新增對電子電腦輔助設計(Electronic Computer Aided Design)與技術電腦輔助設計(Technology Computer Aided Design)軟體及技術的限制。
何謂「AI創作物」?日本智慧財產戰略本部之「次世代智財系統檢討委員會」於2016年4月18日公布的報告書針對「AI創作物」有諸多討論,截取部份內容如述。 以現行著作權法來看,自然人創作產生的創作物,受到著作權保護並無疑問。倘若係自然人利用AI做為道具產出的創作物,若具備(1)創作意圖;(2)創作貢獻,兩種要件,亦得取得權利。然而,若該創作物僅透過人類指示,過程係由AI自主生成,此時該創作物即屬於AI創作物,目前非屬著作權法保護之範圍。惟上述三種情況在外觀辨識上極為困難。換言之,人類創作物與AI創作物之界線已愈趨模糊。 AI創作物可能具備多種態樣,包括:音樂、小說等,甚至包括新技術及服務的生成。以音樂、小說為例,由於日本著作權法係以「創作保護主義」為前提,只要該創作物完成時具有原創性,即受著作權保護,AI的特性可能會造成該當著作權保護之著作物數量遽增;若AI產生的成果屬於技術或服務,以專利審查需具備新穎性、進步性等要件而言,得獲取專利權難度相對比較高。 而日本政府在討論AI創作物是否具有「保護必要性」,主要係以智財權「激勵理論」出發,該理論核心在於保護人類的投資行為應獲得合理報酬,才有續行創作的動機。
美國政府於2015年10月公告美國創新戰略最新版本美國創新戰略(A Strategy for American Innovation)於2009年9月首次提出,後於2011年2月配合時事及產業發展增補內容。隨著政策的逐步推行,美國國家經濟委員會及白宮科技政策辦公室於2015年10月公布最新版本之美國創新戰略,在原有的框架增補更多內容成為六大重要施政要項,在策略佈局上又大致可分為創新資源整合的三大創新基礎以及三大策略發展方向,前者包括:(1)投資創新基石;(2)刺激私部門進行創新活動;(3)營造一個創新者國度。後者的三大策略發展方向則包括國家產業重要優先發展領域的技術突破,其影響意味著確定重點投資領域能夠取得變革性結果,以滿足國家和世界所即將面臨的社會議題挑戰。其中諸如精準醫療(precise medicine)、加速發展新型神經技術、推動衛生保健的突破性創新、採用先進車輛減少死亡事故、建設智慧城市、推動再生能源技術提高能源效率、開發先進教育技術、發展太空科技等。 其次,係藉由投資未來產業,建設包容性創新經濟,加強美國先進制造的領先地位,創造工作機會和經濟的持續成長。最後,借助於人才、創新思維及技術工具的適當組合,建設創新型政府,為民眾提供更好的行政服務。
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