歐洲創新委員會發布2024年工作計畫,將對策略性科技公司及新創公司提供超過12億歐元的資金

歐洲創新委員會(European Innovation Council, EIC)於2023年12月12日發布2024年工作計畫,其中三項計畫將對策略性科技公司及新創公司提供超過12億歐元的資金:

(1)「探路器計畫」(EIC Pathfinder):本計畫經費共2.56億歐元,將補助「有潛力帶領技術突破」的多元學科(multi-disciplinary)研究團隊;每案補助金額不超過400萬歐元。

(2)「轉型器計畫」(EIC Transition):本計畫經費共0.94億歐元;「轉型器計畫」係協助「探路器計畫」、「歐洲研究院概念驗證計畫」(European Research Council Proof of Concept projects)、「展望歐洲計畫」(Horizon Europe)之研發成果銜接創新應用;此計畫每案補助金額不超過250萬歐元。

(3)「加速器計畫」(EIC Accelerator):本計畫經費共6.75億歐元,補助對象為「有能力創造新市場及促進顛覆性技術創新研發」的新創企業及中小企業。此計畫每案補助金額為250萬歐元以下,但若由EIC基金進行投資者,每案補助金額為50萬歐元至1500萬歐元。

除上述補助外,EIC對於研發計畫管理亦扮演積極主動的角色,可協助受補助者連結歐盟境內外資源,形塑良好的創新生態系。

本文為「經濟部產業技術司科技專案成果」

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美國FDA公告食品營養強化物添加之指導原則

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歐盟執委會發布2020歐洲創新計分板報告

  歐盟執委會(European Commission, EC)於2020年6月23日發布2020歐洲創新計分板報告(European Innovation Scoreboard 2020, EIS),其以「整體結構條件」(Framework conditions)、「投資」、「創新活動」和「影響力」(Impacts)四大指標評比歐盟成員國以及其他歐洲國家的研究與創新績效、創新環境等;各指標下再細分為10個次標和27個子標,例如人力資源、友善創新環境建構、政府部門研發創新支出、企業專業職能訓練、專利與商標申請、高科技產品出口等。   歐洲計分板將歐盟會員國創新表現分為四組,以2020年綜合創新能力分別為:(1)創新領導者(Innovation Leaders):包含丹麥、芬蘭、荷蘭、瑞典等國,為創新表現大於歐盟成員國平均創新度20%以上者;(2)優秀創新者(Strong Innovators):包含奧地利、比利時、法國、德國、葡萄牙等,創新表現大於歐盟成員國平均者;(3)中等創新者(Moderate Innovators):包含希臘、匈牙利、義大利、西班牙、波蘭等國,其創新表現小於歐盟平均者;以及最後一組(4)適度創新者(Modest Innovators):包含羅馬尼亞及保加利亞,為創新表現低於歐盟平均之50%。   此外,在各特定領域上,該報告亦有對不同國家進行排名。例如在創新研究體系領域,表現最好者為盧森堡、丹麥、荷蘭;中小企業帶領創新則以葡萄牙和芬蘭表現最佳;創新協力合作(Innovation linkages and collaboration)以奧地利、比利時、芬蘭最佳。而在全球綜合創新表現上,南韓為創新表現最佳,其向加入專利合作條約(Patent Cooperation Treaty, PCT)國家提交之專利申請數、商標申請數、設計專利申請數量最多,分別為世界其他先進國家的2-10倍不等(申請數量以每十億GDP為一單位計算);其次是加拿大、澳洲、日本、歐盟、美國與中國。歐盟已是第二年超越美國,並在其他主要競爭者中(美國、中國、巴西、俄羅斯、南非等)保持優先,唯優勢差距開始減少。此外,EIS跨年度分析評比,是以歐盟2012年創新表現為基準。報告中將歐盟2012年之創新表現預設為100,在2012-2019年間,中國的創新表現評分自79成長至97,而美國則在93-99間穩定變動;特別是2019和2020兩年,美國創新表現均維持在99,而無顯著之進步。故報告預測若依此趨勢,中國創新表現將在近年超越美國。

歐盟因應數位簡化革命通過Omnibus VII法案:放寬產業合規時程與強化兒少人權保障之《歐盟人工智慧法》修法

歐盟因應數位簡化革命通過Omnibus VII法案:放寬產業合規時程與強化兒少人權保障之《歐盟人工智慧法》修法 資訊工業策進會科技法律研究所 2026年07月22日 今(2026)年6月16日,歐洲議會(European Parliament)以423票贊成、57 票反對、174 票棄權,通過「第七號數位綜合法案」(Omnibus VII)下對《歐盟人工智慧法》(EU AI Act,下稱AIA)的修正案[1]。隨後於6月29日,歐盟理事會(Council of the European Union)批准了歐洲議會的審議決議。最終於7月8日,經歐洲議會議長及歐盟理事會主席共同簽署,該修正案正式通過[2]。 壹、事件摘要 自2024年10月起,歐盟理事會為因應萊塔(Enrico Letta)與德拉吉(Mario Draghi)報告中指出的歐洲競爭力危機,於2024年11月8日發布《布達佩斯宣言》(Budapest declaration)要求「發起一場簡化革命」,希冀為企業提供一個清晰、簡單且具備彈性的法規治理框架,並減輕企業面臨的法遵成本與合規摩擦。為此,歐盟執委會自2025年2月起陸續提出十項「綜合法案」(Omnibus packages),旨在鬆綁永續發展、投資與農業的申報程序、擴大對中小企業的制度支持、推動數位化轉型與統一技術規範、調和國防、化學產品、環境、汽車產業、食品與飼料安全,以及包含人工智慧在內的數位新興議題。其中,「第七號數位綜合法案」核心目的即在於簡化歐盟的數位立法框架,並落實全歐盟統一的人工智慧調和規範[3]。 另一方面,鑑於當前兒少網路參與度大幅提升及科技的急速發展,除加劇刑事執法之訴追難度外,亦衍生新型態之數位侵害手段,包括犯罪者利用人工智慧等新興技術將兒少視為下手目標。雖然歐盟現行主要規範兒少性侵害與性剝削之刑事法制,為2011年通過之《打擊兒童性虐待與性剝削指令》(Directive 2011/93/EU on combating the sexual abuse and sexual exploitation of children and child pornography),但為填補此一科技漏洞,歐盟亦於「第七號數位綜合法案」修正案中,針對深偽影像(deepfake)氾濫問題提出對策,並於《打擊兒童性虐待與性剝削指令》中進行修法研議[4]。 貳、重點說明 此次修法有兩大重點,一為延後AIA設定的義務期限,並在修訂事項中調整與其他產業法規的競合關係;二為在《歐盟人工智慧法》第5條「不可忍受之風險」增訂一項新條文,禁止生成未經當事人同意的性私密影像內容,以及兒童性剝削素材(child sexual abuse material, CSAM),同時亦在其他相關法律有配套之修法研議共同打擊涉及之AI數位性暴力犯罪,保障兒少人權。 一、簡化歐盟的數位法制監管框架 (一)調整AIA之合規時程 本次修法在於動態調整AIA設定的合規時程,包括延後高風險AI系統的義務期限,將「獨立型高風險AI」延至2027年12月2日適用,以及將「產品嵌入型高風險AI」延至2028年8月2日適用[5]。同時,將會員國應建置「國家級AI監理沙盒」的法定期限延展至2027年8月2日[6],以提供企業及政府機關更充裕的準備期間,完成技術、治理及法遵機制的調整,降低法規適用初期的合規負擔,並確保新制度得以順利銜接與落實[7]。 (二)釐清不同法律之適用關係 為促使企業能有效遵守AIA的監管相關規定,於修法上明確劃分與其他特定產業法規(如醫療器材、玩具、電梯及船舶等產業)的適用關係,並課予歐盟執委會制定指引之義務,協助涉及高風險AI系統的開發商或經營者,能依據指引遵循AIA的高風險AI治理規範並同時降低其法遵成本[8]。換言之,如特定產業法規已明定與AIA相仿之AI法律規範,但會與AIA產生競合問題,如要排除AIA之適用則須於歐洲議會就產業法規進行修正。為降低修法成本,AIA此次修法賦予歐盟執委會「授權法規」(delegated acts)之權限[9],得制定法規命令協調產業法規與AIA之適用關係,並在特定範圍內限制或排除AIA之適用[10]。同時要求歐盟執委會應發布相關指引,指導企業遵守人工智慧風險治理相關規範[11]。藉由此類機制,確立特定產業法規的優先適用原則,並藉此排除AIA與其他法規的競合矛盾,以避免企業因身陷法規的多頭馬車而面臨沉重的法遵負擔[12]。 二、強化AI治理下的兒少人權與性別平等措施 (一)AI衍生之數位性暴力納入不可忍受風險 於「第七號數位綜合方案」修正案中,針對深偽影像部分,修法強化業者導入「人工生成內容」的透明度標示義務,將原本的合規寬限期從6個月縮短至3個月[13],亦即提前至今年12月2日全面施行[14]。同時,將非自願的生成式性私密影像及兒少性剝削生成式素材列為AIA第5條之不可忍受風險,並將會生成真實人物裸照,或修改現有照片衣物以暴露私密部位的AI系統,定於今年12月起全面禁用[15]。 (二)配套法律之相關修正 無獨有偶,歐盟理事會與歐洲議會代表亦於6月22日,針對《打擊兒童性虐待與性剝削指令》之修正法案,達成暫時性政治共識(provisional agreement)[16]。擬將凡是設計或改造AI系統以產出兒童性剝削素材,以及散布此類系統之行為,或以「AI 提示詞(prompt)」製作兒童性剝削素材之教學指引行為,納為刑事犯罪。後續,該修正法案若獲得歐盟理事會與歐洲議會的通過,會員國必須在3年內修改其國內刑法的相關規範,以符合修訂後之歐盟指令,藉此提升歐盟境內對兒少人權之保護,避免遭受新型態數位性暴力而影響其身心健康發展[17]。 參、事件評析 整體而言,「第七號數位綜合法案」就AIA的修正法案主要是透過義務時程的調整來緩和硬法(hard law)監管之治理模式,亦及體恤企業並維持歐洲競爭力,因此放寬並延後了醫療、機械、金融等高度涉及高風險AI應用相關產業的適用時程,避免沉重的法遵成本與合規摩擦,藉由「時間換取空間」之方式,讓企業在數位轉型上有較大的經營空間。儘管如此,歐盟亦堅守其基本人權底線,對於兒少權益、性別平等採取堅硬態度,除將生成式AI透明度義務的合規時程提前,更將AI的數位性暴力納入不可忍受風險,同時封殺AI脫衣(nudification)系統,並配合相關修法,研議將運用AI涉及兒少數位性暴力之行為列為刑事犯罪,其鐵腕手段正印證歐洲對人工智慧「以人為本」之精神。 對臺灣而言,雖然《人工智慧基本法》於今年1月14日施行,大部分的作用法及配套措施仍待規劃當中,我國之法律框架也並非採取歐洲治理模式,但歐盟就境內企業發展所採取之法規調適,值得我國留意,比如中小企業會面臨導入人工智慧的法遵成本與合規摩擦,政府應研議其配套措施。此外,對於兒少人權之保障,《人工智慧基本法》亦反映相同之立法精神,比如第5條規定:「政府應以兒少最佳利益為原則,人工智慧產品或系統經中央目的事業主管機關會商數位發展部認定為高風險應用者,應明確標示注意事項或警語」,我國仍需留意針對兒少而衍生之新型態數位性暴力議題,不論是否要行政管制或以刑罰相繩,此類風險必須被認真對待,並思考出適當的應對機制。 本文為資策會科法所創智中心完成之著作,非經同意或授權,不得為轉載、公開播送、公開傳輸、改作或重製等利用行為。 本文同步刊登於TIPS網站(https://keid.nat.gov.tw/tips/) [1] 第七號數位綜合法案涉及兩個領域的法律修正案,其中一個針對人工智慧領域,即AIA的修正案,另一個則是涉及個人資料保護與網路資訊安全的法律修正案,包括《一般資料保護規則》(General Data Protection Regulation, GDPR)與歐盟NIS 2指令。前者已通過,後者因未取得共識尚在審議中。因此,本文討論的修法僅限於AIA的修正法案。詳細內容可以參考European Council, Simplification of EU rules, https://www.consilium.europa.eu/en/policies/simplification/(last visited July 13, 2026). [2] European Parliament, AI Act: EP approves simplification measures and “nudifier” app ban, https://www.europarl.europa.eu/news/en/press-room/20260611IPR45207/ai-act-ep-approves-simplification-measures-and-nudifier-app-ban(last visited July 13, 2026). [3] European Council, Artificial Intelligence: Council gives final green light to simplify and streamline rules, https://www.consilium.europa.eu/en/press/press-releases/2026/06/29/artificial-intelligence-council-gives-final-green-light-to-simplify-and-streamline-rules/(last visited July 13, 2026). [4] European Council, Combatting child sexual abuse: EU agrees stronger criminal law rules and enhanced support to victims, https://www.consilium.europa.eu/en/press/press-releases/2026/06/22/combatting-child-sexual-abuse-eu-agrees-stronger-criminal-law-rules-and-enhanced-support-to-victims/(last visited July 13, 2026). [5] 修正AIA第113條,原本實施日期是2026年8月2日。立法文件see European Parliament & European Council, Regulation of the European Parliament and of the Council amending Regulations (EU) 2024/1689, (EU) 2018/1139 and (EU) 2023/1230 as regards the simplification of the implementation of harmonised rules on artificial intelligence (Digital Omnibus on AI), PE 30/2026 INIT, 2026, p. 33. [6] 修正AIA第57條,原本實施日期是2026年8月2日。立法文件見同前註5,頁60。 [7] 同前註3。 [8] 簡單來說,若該產業法規已提供等同或更高程度的健康、安全或基本權利保護,歐盟執委會得限制或排除AIA中特定義務,包括對高風險AI系統的「系統性要求」,如風險管理系統、系統上市前的技術文件資料、資料保存義務等,詳細內容參考,同前註5,頁42。 [9] 歐盟之授權法規(delegated acts)在性質上類似於我國基於法律授權之法規命令。依據《歐洲聯盟運作條例》第290條之規定,歐洲議會及理事會得於立法中授權歐盟執委會,由其自行制定非立法性且具普遍適用性之法規,用以補充或修正該法律之特定非核心要素。see Consolidated Version of the Treaty on the Functioning of the European Union art. 290, 2016 O.J. (C 202) 1, 172). [10] 新增AIA第2條第13項,同前註5,頁42。另外,歐盟理事會以機械產品法規(machinery regulation)為例說明,歐盟執委會得制定授權法規增訂關於高風險AI機械產品的健康與安全規範要求以免除適用AIA,同前註3。 [11] 修正AIA第96條第1項,要求歐盟執委會必須在2027年8月1日前發布指引,同前註5,頁86。 [12] 同前註3。 [13] 僅限於AIA第50條第2項機器可讀的數位浮水印或技術標籤的標示義務,同前註3。 [14] 新增AIA第111條第4項,同前註5,頁90。 [15] 同前註5,頁47。 [16] 暫時性政治共識(provisional agreement),係指歐盟立法程序中,歐洲議會(European Parliament)、歐盟理事會(Council of the European Union)及歐盟執行委員會(European Commission)進行三方協商(trilogue)後,由歐洲議會與歐盟理事會就法案內容達成的初步政治協議。該協議尚須依各機構內部程序正式批准,始完成立法程序並具法律效力。 [17] 同前註4。

美國商務部產業安全局擴大對中國半導體製造設備、軟體工具、高頻記憶體等項目之出口管制

.Pindent{text-indent: 2em;} .Noindent{margin-left: 2em;} .NoPindent{text-indent: 2em; margin-left: 2em;} .No2indent{margin-left: 3em;} .No2Pindent{text-indent: 2em; margin-left: 3em} .No3indent{margin-left: 4em;} .No3Pindent{text-indent: 2em; margin-left: 4em} 美國商務部產業安全局(Bureau of Industry and Security,簡稱BIS)於2024年12月2日發布《外國生產的直接產品規則補充以及先進運算及半導體製造項目管制精進》(Foreign-Produced Direct Product Rule Additions, and Refinements to Controls for Advanced Computing and Semiconductor Manufacturing Items),並於同日(12月2日)生效,部分管制措施的法律遵循延後至2024年12月31日。BIS開放公眾可以就本次管制提出意見。 因中國的半導體戰略旨在進一步推進中國的軍事現代化、大規模殺傷性武器(WMD)的發展,美國政府認為中國的相關政策與措施,將可能侵害美國及其友盟之國家安全。因此,本次管制之目的旨在進一步削弱中國生產先進節點半導體的能力,包括下一個世代的先進武器系統,以及具有重要軍事應用的人工智慧與先進運算。 為達上述目的,本次管制修正具體擴大的管制項目概述如下: 1. 24種半導體製造設備,包括某些蝕刻(etch)、沉積(deposition)、微影(lithography)、離子注入(ion implantation)、退火(annealing)、計量(metrology)和檢驗(inspection)以及清潔(cleaning)工具。 2. 3種用於開發或生產半導體的軟體工具。 3. 管制源自美國的高頻寬記憶體,以及於美國境外生產且美國管制清單中所列之高頻寬記憶體。 4. 新增對電子電腦輔助設計(Electronic Computer Aided Design)與技術電腦輔助設計(Technology Computer Aided Design)軟體及技術的限制。

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