工業技術研究院系統晶片技術發展中心( STC)計畫將其與國立交通大學推出的靜電放電防護(ESD protection)技術相關專利授權業界,該專利以6大組合區分,包含「輸出入介面電路之靜電放電防護」、「高速/射頻/混壓輸入輸出IC之靜電放電與電性栓鎖防護」、「輸出入單元電路設計」等共計110件專利,預計進行專屬授權。
隨著半導體產業競爭全球化,競爭型態也從過去的價格戰轉變成智慧戰,半導體產業廠商需快速大量取得專利權進行佈局,才能保持產業競爭力。配合產業界對專利的需求,工研院此次專屬授權的 ESD專利組合,主要來自STC的研發成果,將IC半導體產業中極重要的靜電放電防護與輸出入單元電路設計(I/O Circuit Design)相關專利,搭配交通大學電子工程系靜電放電防護專利,公開徵求專屬授權廠商。
ESD專利組合專屬授權說明會訂
本文為「經濟部產業技術司科技專案成果」
八位美國眾議員於2007年2月6日連署提出新法案,擬賦予司法部門首長更大的權限要求網路服務提供者(ISP)記錄用戶的網路活動並留存特定的用戶資訊。草案提交眾議院審議後,隱私保護機構紛紛表達反對立場。 此次由德州眾議員Lamar Smith主導的新法案「the Internet Stopping Adults Facilitating the Exploitation of Today's Youth Act of 2007(簡稱SAFETY Act)」中,ISP業者必須保留的用戶資料,最低限度需包括用戶姓名、地址、電話及IP位址;至於用戶資料的留存期間,則將交由美國司法部決定。以現況而言,多數ISP業者所保存的用戶資訊均在半年以下;然而美國司法部部長Alberto Gonzales曾於2006年9月公開倡議ISP業者資料留存期間,應以兩年為宜。 此外,草案亦要求ISP業者發現其所提供的服務存在兒童色情情事時,應主動通報主管機關,否將面臨15至30萬美元的罰金;若其有意地助長兒童色情的流傳,更可能面臨最高10年的徒刑。 批評者如「民主及科技中心」(Center for Democracy and Technology;CDT)表示,此法案不啻為對憲法修正條文第一條的威脅,毫無限制的授權更可能肇致用戶資料的留存期間成為司法首長個人得以專擅決策之事項。
歐盟發布數位身分皮夾信賴方登錄實施規則,健全數位信任生態系歐盟執委會於2025年5月6日發布《數位身分皮夾信賴方登錄實施規則》(Commission Implementing Regulation (EU) 2025/848 Laying down Rules for the Application of Regulation (EU) No 910/2024 of the European Parliament and of the Council as regards the Registration of Wallet-Relying Parties)(下稱實施規則),旨在幫助數位身分皮夾(Digital Identity Wallet)用戶確保其身分資料傳輸至可信賴對象,且傳輸之資料並未超過預期用途。 實施規則規範重點如下: (1)建置及維運登錄資料庫:會員國應建置皮夾信賴方(wallet-relying party)登錄資料庫,並指定登錄管理員負責管理及維運。 (2)訂定登錄政策及程序:會員國應訂定登錄政策,內容須涵蓋皮夾信賴方註冊時之身分識別及核實程序、登錄程序所需配套文件及佐證資料、用以確認皮夾信賴方提供資訊正確之真實來源、皮夾信賴方之救濟機制、驗證已註冊信賴方身分之規則及程序,並盡可能採自動化流程。 (3)申請登錄所需資訊:皮夾信賴方申請登錄時應提供之資訊,包括與官方身分紀錄一致之姓名或組織名稱、身分識別資料(如國民身分識別碼、商業登記號碼、加值營業稅號、歐盟經濟營運者註冊及識別碼(Economic Operator Registration and Identification Number))、地址、聯絡資訊、服務類型描述、針對各項預期用途擬請求之資料清單、是否為公務機關等。 (4)簽發相關憑證:會員國應授權至少1家憑證機構簽發皮夾信賴方存取憑證(access certificate),以確認皮夾信賴方之身分。會員國另得授權憑證機構簽發皮夾信賴方登錄憑證(registration certificate),以證明皮夾信賴方所取得之資料未超過預期用途。 (5)暫停或取消登錄資格事由:若有登錄資訊不實、違反登錄政策、請求資料超過預期用途等情事,將暫停或取消皮夾信賴方登錄資格。 (6)紀錄保存年限:登錄及憑證簽發紀錄應保存10年。 此實施規則已於2025年5月27日生效,將於2026年12月24日施行。
日本特許廳持續就專利商標查詢平台(J-PlatPat)進行效能優化國際智慧財產權的檢索、查詢,幫助技術、競爭的情報蒐集,是企業能夠規劃出智財布局的優先前提。日本特許廳為提升「專利商標查詢平台」(J-PlatPat)之功能及查詢便利性,規劃就現有平台機能進行擴充,預計在2019年5月時,全面改版完成。特許廳本次J-PlatPat的改版,主要更新或擴充項目包括:將設計專利及商標於審查、審判階段之文件納入可查詢之範圍,並縮短資料上傳時間,使相關文件於上傳隔日即可查詢;增加商標存續狀態之呈現,並增加已廢止商標之檢索;採用人工智慧進行翻譯,提升翻譯品質等;亦針對關鍵字、搜尋結果排序、圖面之運用、設計專利之圖面呈現方式進行優化。 改版後之專利、商標檢索系統便利性,大幅提升,使用上亦毋需支付任何費用。日本特許廳J-PlatPat(https://www.j-platpat.inpit.go.jp/)是個免費的資源,我國企業、學界的智財實務工作者可善加運用此平台,更有效率地達成技術和競爭情報檢索,在專利、商標的國際性競爭中勝出。