Nbn 工研院將釋出百多項專利

  工業技術研究院系統晶片技術發展中心( STC)計畫將其與國立交通大學推出的靜電放電防護(ESD protection)技術相關專利授權業界,該專利以6大組合區分,包含「輸出入介面電路之靜電放電防護」、「高速/射頻/混壓輸入輸出IC之靜電放電與電性栓鎖防護」、「輸出入單元電路設計」等共計110件專利,預計進行專屬授權。


   隨著半導體產業競爭全球化,競爭型態也從過去的價格戰轉變成智慧戰,半導體產業廠商需快速大量取得專利權進行佈局,才能保持產業競爭力。配合產業界對專利的需求,工研院此次專屬授權的 ESD專利組合,主要來自STC的研發成果,將IC半導體產業中極重要的靜電放電防護與輸出入單元電路設計(I/O Circuit Design)相關專利,搭配交通大學電子工程系靜電放電防護專利,公開徵求專屬授權廠商。


  ESD專利組合專屬授權說明會訂721上午930分於工研院竹東中興院區9010室召開,內容包括專屬授權競標規則、專利組合及專屬授權契約內容介紹,並隨即開放通訊投標,結標日為923

本文為「經濟部產業技術司科技專案成果」

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淺談攻擊性商標

  對於商標權之內容是否涉及對特定人士的產生不快或冒犯,以及國家是否有權禁止其註冊為商標之問題,我國法係在商標法第30條第1項第7款中規定,商標妨害公共秩序或善良風俗者,不得註冊;並經由經濟部智慧財產局訂定「商標妨害公共秩序或善良風俗審查基準」,建立認定準則,並認為應「考量註冊當時之社會環境,並就其指定使用商品或服務市場之情況、相關公眾之認知等因素綜合判斷」。   而在美國法中,亦有 Lee v. Tam一案,針對美國專利商標局 (United States Patent and Trademark Office, USPTO)是否有權依照 The Lanham Act第2條a款規定駁回商標申請的權利進行爭執,該條規定「包含不道德、欺騙、誹謗性、貶損或誤導他人(不論生死)、組織、信仰或國家象徵等意涵、或導致前者名譽受損之圖案,不可註冊為商標」。   該案在2015年12月22日於美國聯邦巡迴上訴法院進行判決,法院認為,儘管是具攻擊性的歧視言論,亦受到美國聯邦憲法第一修正案所保障,故美國政府不得以商標圖案的言論內容具攻擊性為理由,拒絕商標的註冊。本案經上訴於美國聯邦最高法院,最高法院於2016年9月29日已經同意其提起上訴,將對本案進行審理。

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