所謂「尖端大型研究設施」,系指日本《特定尖端大型研究設施共用促進法》(特定先端大型研究施設の共用の促進に関する法律)中,由國立研究法人所設置,並受該法規範之研究設施。 該法之目的係在設置被認為不適合於國立實驗研究機關,或進行研究之獨立行政法人中重複設置之以高額經費購置的該研究領域中最尖端技術之研究設施設備,並於該研究領域中進行多樣化研究之活用,以發揮其最大之價值。 目前受到該法規定的研究設施包括特定同步輻射研究設施,其包含了「SPring-8」及「SACLA」等兩座大型同步輻射研究設施,與特定超級電腦設施,亦即超級電腦「京」,以及包括了高強度質子加速器「J-PARC」之一部的特定中子輻射研究設施;以SPring-8為例,該設施之網站上登載有使用情報、使用申請及參考資料等,供欲使用該設施之研究人員參考。
韓國2月通過《加強保護國家高科技戰略產業競爭力特別措施法(半導體特別法)》韓國2月通過《加強保護國家高科技戰略產業競爭力特別措施法(半導體特別法)》 資訊工業策進會科技法律研究所 2022年3月23日 韓國政府意識到在高科技產業競爭環境中培育知識人才,以及保護國家戰略產業發展的重要性。2019年修訂《防止產業技術外流及產業技術保護法》(下稱產業技術保護法),針對國家核心技術外流及侵害行為加以重罰外;復於2021年12月提出《國際霸權技術競爭下之科技保護策略》(下稱韓國科技保護策略),並於2022年2月3日通過《加強保護國家高科技戰略產業競爭力特別措施法》[1],於同年8月4日生效。分別說明如下: 壹、韓國高科技保護機制發展趨勢 韓國核心科技保護法制體系的特色,是在《防止不當競爭及營業秘密保護法》禁止竊密及《對外貿易法》出口管制之外,訂定了保護產業技術之專法《產業技術保護法》,並以韓國科技保護策略,宣告政府科技保護策略整體方針。 一、產業技術保護法 (一)立法目的 韓國於2006年10月27日制定《產業技術保護法》,該法第1條載明該法立法目的為:「防止工業技術的過度洩露和保護工業技術,以加強韓國工業的競爭力,促進國家安全和國民經濟的發展。」該法規範之國家核心技術係指在國內外市場中,具有較高經濟價值或高度產業成長潛力之技術,此類技術若外洩到國外,對於國家的安全保障及國民經濟發展,將造成重大惡劣影響之虞。 (二)產業技術保護委員會選定國家核心技術防止外流 《產業技術保護法》規定由產業通商資源部部長擔任產業技術保護委員會的委員長,成員包括財政部、教育部、科學部、外交部、法務部、國防部、農林部、保健部、環境部、交通部、海洋部、中小事業部次長、智慧局局長以及民間代表。 各部會由主管業務之產業技術範圍中選定國家核心技術名單,再由產業通商資源部部長及各主管部會部長選定國家核心技術,最後經由產業技術保護委員會經法定程序予以指定、變更、撤銷。該委員會主要根據該產業技術對國家安全保障及國民經濟衍生效益、國內外市占率,以及產業影響力,來進行考量國家核心技術清單,在每年2月底檢討前一年度執行情形,並於10月底更新下一年度國家核心技術及其保護計畫,決定國家核心技術清單。2021年1月產業技術保護委員會審議通過之「國家核心技術指定項目公告」修訂版,指定之國家核心技術包括半導體、顯示器、資通訊、電機電子、機械、機器人、鋼鐵、造船、交通、航太、核能、生命科學等12大領域共71項。 (三)防止國家核心技術外流加重罰則 《產業技術保護法》先後經歷8次修法強化保護力道,最新一次修法是在2019年8月,修法內容包括加強外資管控,凡是國外併購、合併,無論技術是自行開發或政府資助,皆須向政府申報,如果政府認為有影響國安之虞,可下令暫停或禁止;另外是加強技術保護責任,要求國家核心技術之持有及管理者採取必要的保護措施;修法前對於技術外流之懲罰規定僅設有上限(15年有期徒刑及15億韓元),故增訂技術外流至海外之最低罰則為3年以上有期徒刑及15億韓元罰金。 二、韓國科技保護策略 韓國政府2021年12月宣布之科技保護策略,旨在制定各部會科技保護策略方針,以避免韓國核心技術不法外流。該保護策略宣告: (一)將定期檢視國家核心技術之指定、變更與撤銷。 (二)針對國家核心技術清單制定一定執行期間(如5-10年,視技術項目而定)。 (三)規劃於2023年修正《產業技術保護法》,針對外資的認定,增訂間接持股、雙重國籍等情事。 (四)以過去出口管制之企業、投資審查之對象為基礎,將可能持有國家核心技術之企業登錄、加強管制,並建立國家核心技術專家資料庫,以持續監控其出入境。 (五)規劃跨部會合作,包括應用智慧財產局的專利資料庫,認定擁有國家核心技術之相關人員或機構。 貳、《加強保護國家高科技戰略產業競爭力特別措施法》 《加強保護國家高科技戰略產業競爭力特別措施法》(下稱半導體特別法),在《產業技術保護法》之「國家核心技術」外,額外定義「國家高科技戰略技術」,除出口、併購應依現行《產業技術保護法》事先取得產業通商資源部許可外。對於不法侵害國家高科技戰略技術,訂定更嚴厲的罰則;同時針對相關產業提供系統性支援措施。 一、成立由韓國總理主導的「國家高科技戰略產業委員會」,制定5年戰略產業培育及保護的基本計畫。 委員會組成:提高管理層級,由總理為主席,成員包括部會首長、產學研專家,委員人數不超過20名,並由產業通商資源部擔任秘書處。 各領域專門委員會:為協助委員會審查和事先審議,各戰略產業領域得設立專門委員會,每領域委員不超過10名,各專門委員會之主席由「國家高科技戰略產業委員會」主席根據部會首長推薦任命之。 二、「國家高科技戰略技術」由「國家高科技戰略產業委員會」指定,定義為: 影響國家及經濟安全重大者,例如影響供應鏈穩定之半導體技術。 具成長潛力、技術困難度及產業重要性者。 對於相關產業具重大漣漪效益者。 「國家高科技戰略產業」則指研究、開發、商業化國家高科技戰略技術,或以國家高科技戰略技術為基礎,商業化生產產品或服務的產業。 三、加重不法侵害國家高科技戰略技術的罰則:意圖在境外使用或使技術在外國使用,而不法侵害國家高科技戰略技術者,處15年以下有期徒刑、15億韓元以下罰金;未取得許可出口、投資併購而不法侵害國家高科技戰略技術者,處15年以下有期徒刑、15億韓元以下罰金。 四、中央及地方政府應制定培育、保護國家高科技戰略產業必要的政策。有關國家高科技戰略技術的保護,除半導體特別法有規定外,依《產業技術保護法》之規定。< 五、為支持國家高科技戰略產業,提供加速辦理許可、迅速處理環安或職安民事投訴、投入政府預算、減免稅金、培育專業人才等方案。 六、為穩定國家高科技戰略產業供應鏈,政府因自然災害或國際貿易形勢導致相關技術供需穩定有疑慮時,經營者、進出口、運輸、倉儲業者或國營事業,應依據總統令,以六個月為期限,於期間內辦理生產計畫、國內優惠供應方案或設施擴建等事項。 參、代結論:韓國本次《半導體特別法》評析 韓國《半導體特別法》在認定國家高科技戰略技術時,將民間企業或專家的意見,納入國家高科技戰略技術認定與管制機制的決策程序中,綜合考量該技術對國家及經濟安全、技術成長潛力等影響,在最小必要範圍內選定之。另,《半導體特別法》亦特別提出國家高科技戰略產業發展的優惠政策方案,讓該些產業雖因其重要性須受嚴厲管制,但同時也得到政府加速辦理許可、減免稅金等支持。就韓國本次修法,在其認定重要技術的評估方法,以及提供對應配套機制上,值得做為我國未來在保護重要高科技產業做法上的參考。 [1] Cabinet passes National High-Tech Strategic Industries Special Act, Jan. 25, 2022, https://english.motie.go.kr/en/pc/pressreleases/bbs/bbsView.do?bbs_cd_n=2&bbs_seq_n=911 (last visited 2022/03/20)
延長專利保護對產業研發創新的效應思考-兼談專利法修正草案第54條 全球四大晶片業者共同研發奈米蝕刻技術世界四大電腦晶片業者決定與紐約州合作,在今後五年內出資 5.8億美元,研究發展下一代電腦微晶片製造技術。紐約州預定出資1.8億美元,美國IBM、超微半導體(AMD)、美光科技(Micron)與德國英飛凌預定各出五千萬美元的現金與設備,另2億美元由多家提供物料與設備的廠商提供。惟世界最大晶片廠商英特爾(Intel)並未參與此計畫,英特爾目前在x86微處理器市場中,占有銷售量的80%、銷售額的90%。 此國際奈米蝕刻事業( International Venture for Nanolithography, INVENT)計畫的基地,預定設在奧伯尼紐約州立大學奈米科學與工程學院,預期共有500多位研究人員、工程師與其他人員,投入此計畫。 奈米科技是研究分子與原子級的科學,此一計畫研究重心是利用光線,蝕刻大約頭髮直徑十萬分之一大小的電路,讓參與公司及早取得與學習應用研究出來的蝕刻工具。由於近年半導體速度與複雜性快速提高,晶片業者製造更小、更快晶片的難度增加,研究發展成本飛躍上升,業界體認到必須合作,才能負擔。一具蝕刻工具成本可能高達 2500萬美元,蝕刻工具進步攸關晶片廠商繼續縮小晶片規模,使每個晶片具有更多運算與儲存能力。目前生產的最先進晶片運用90奈米科技,晶片廠商希望從2006或2007年起,生產65奈米晶片。