歐盟數位單一市場著作權指令(Directive on Copyright in the Digital Single Market 2016/0280,簡稱COD)中最具爭議性的草案為第13條,被稱為「上傳過濾器」(upload filter),其課予如YouTube、Facebook 及Twitter等內容產業業者,具有防止著作權侵權內容於其平臺被上傳與分享之責任,故平臺須以有效的內容辨識科技(effective content recognition technologies)對所有使用者的上傳內容進行監督與審查,因此又被稱為「迷因禁令」(Meme Ban)。據此,所有二次創作內容均會被禁止上傳於平臺。
所謂「謎因(Meme)」在牛津字典被定義為「具幽默本質並可迅速被複製、散布於網路使用者間,且通常會輕微改作的圖片、影片或文本等(An image, video, piece of text, etc., typically humorous in nature, that is copied and spread rapidly by Internet users, often with slight variations.)」。不少公開平臺甚至以提供觀看、上傳Meme為主要內容,如國際知名Meme網站- 9GAG。若該法通過,對這些大量分享二創內容的網路平臺,將造成全面性的衝擊;此外,也有不少平臺巨頭如YouTube的CEO針對這項草案發出將侵害人權與言論和創作的憂心建言。
該草案自2016年提出歷經歐洲議會多次表決,預定於明年(2019)元月進行最終表決,這個極具爭議性的條款未來將如何發展,是否即將翻轉現有網路二創環境值得關注,社群網路也已經發展出#SaveYourInternet的主題標籤,呼籲大眾的重視。
所謂NPE依據現行學術界對於NPE的內涵認知,認為NPE係指不從事任何商品生產,亦不從事任何研發工作者。而在現行NPE的運作態樣上,其可包含兩種類型,其一,為大學和研究機構(例如:公、私立實驗室),其主要係由校內教職員或研究人員進行基礎性研究,並將研究成果授權予其他個人或組織來運用,其本身並不從事任何商品生產者;其二,係由個人或是中小型組織/團體以購買專利的方式來獲得專利權,並藉由專利權本質上的排他性特徵,以訴訟方式來控告侵害其專利權的成功商品製造者。後者,英文稱其為『Patent Troll』,中文可譯為『專利巨人』、『專利蟑螂』、『專利流氓』、『專利地痞』或『專利恐怖分子』等。其主要特徵有三項,首先,此類NPE係藉由專利取得的方式,向潛在或可能的專利侵權者(alleged infringers)收取專利授權金;第二,此類NPE並不進行任何研發活動,其亦不就其所擁有的專利來從事商品化活動或發展新型技術;第三,此類NPE投機性地等待商品製造者(industry participants)在投入不可回復鉅額投資後,始對該商品製造者行使專利侵權主張。
簡介美國無線電視所有權限制相關規則之發展 2023年日本著作權法修訂之相關規範2023年5月17日,日本國會通過了《著作權法》部分條文修正案,並於同月26日公布(2023年第33號法)。 隨著數位化的進步,內容的創作、傳播和使用變得更加容易,不再只是過去主流的出版社、電視台等「專業人士」才能從事,而是一般普羅大眾也可以參與創作,並將內容貼在網路上。與此同時,既有著作之重新利用的需求等情形均日益增加,然而此類內容的問題在於難與著作權人取得聯絡,不一定可順利使用。 為了解決上述問題,本次修正重點之一係新增第67之3條,根據該條規定,儘管著作之利用人採取了確認著作權人授權意願等措施,但仍無法確認著作權人授權意願時,得向文部科學省所屬之文化廳申請裁定,經文化廳長裁定允許利用並繳納補償金後,利用人得於該裁定所定之期間內(申請書所載之期限最長不得超過3年)先行使用該著作。新裁定利用制度放寬了確認著作權人意願之程序與要求,降低使用門檻,並同時規定著作權人可聲請撤銷使用,如果文化廳長裁定撤銷使用,則利用人應停止繼續使用該著作,著作權人得依利用人實際使用期間之比例領取補償金。另為簡化及加快程序,關於新裁定利用制度之申請受理、要件確認與補償金額的決定等部分事務,文化廳長得指定特定之民間機構作為聯絡窗口負責相關行政手續之處理(第104條之33以下相關規定)。 新裁定利用制度的建立,將有助於促進著作之流通利用,即認為已充分週知著作權人,且盡可能地確認著作權人等是否可以使用的意思,仍不能確認意思狀態之著作,而採取一定措施放寬使用是妥適的。因考慮到週知等需要時間,乃決定從公布日(2023年5月26日)起3年內施行。 本文同步刊登於TIPS網(https://www.tips.org.tw)
政府重申並未放寬輸往中國大陸半導體晶圓製程設備之出口管制由於國際出口管制組織「瓦聖那協議」( Wassenaar Arrangement,WA)於去年(93)底修訂半導體晶圓製程技術水準之出口管制規定,由0.35微米放寬為0.18微米;國貿局為配合「瓦聖那協議」之修訂,亦於今年9月公告半導體晶圓製程技術之出口管制修正為0.18微米。 然,我國半導體晶圓製造廠商申請赴中國大陸投資,主要依據經濟部之「在大陸地區投資晶圓廠審查及監督作業要點」辦理,其中第四點申請要件明顯規定「大陸投資事業製程技術限於0.25微米以上」。此外,在國貿局「限制輸出貨品總彙表」更有規範半導體晶圓製造等相關設備之輸出規定121:需要有國貿局簽發輸出許可證;輸出規定488:(一)輸往大陸地區者,應檢附經濟部投資審議委員會核准投資文件;輸往大陸以外地區者,應檢附保證絕不轉售大陸地區之切結書。(二)外貨復運出口者,另檢附原海關進口證明文件。(三)屬戰略性高科技貨品列管項目者,除應申請戰略性高科技貨品輸出許可證,並檢附上述文件外,應另依戰略性高科技貨品輸出入管理辦法規定,檢附下列文件:1、進口國核發之國際進口證明書、最終用途證明書或保證文件。2、外貨復運出口者,如原出口國政府規定需先經其同意者,應另檢附原出口國政府核准再出口證明文件;其於原進口時領有我國核發之國際進口證明書、最終用途證明書或保證文件者,應再檢附該等文件影本。 國際貿易局強調,我國目前開放半導體晶圓製程技術輸往中國大陸仍限為0.25微米以上,並未放寬輸往中國大陸之出口管制。