Unicolors v. H&M一案可能翻轉美國著作權法§411註冊無效之認定標準
美國最高法院於2021年11月8日聽取了Unicolors v. H&M案的口頭辯論，該案上訴法院認為著作權法§411所規定的註冊無效情況，並不以著作權人登記註冊時有主觀的詐欺意圖為限，應擴及到對錯誤事實有認知就足以使著作註冊無效，此一見解打破了先例判決。
依美國著作權法規定，著作權登記雖非取得著作權保護的要件，但著作權人須向官方進行註冊登記，才得以在美國提出著作權侵害的民事訴訟，使登記成為在美國主張著作權利之要件。
本案原告Unicolors主張被告H&M銷售之產品侵害其著作權，被告H&M主張原告Unicolors著作登記所涵蓋的31種面料設計並非同一天出版，不符合同一出版作品的要求，依美國著作權法§411規定，若申請註冊之資訊不正確，該錯誤資訊有導致該著作註冊無效的可能性，被告H&M此主張被上訴法院—第九聯邦巡迴法院所接受，法院認為著作權法§411所規定的註冊無效情況，並不以著作權人登記註冊時有主觀的詐欺意圖為限，應擴及到對於該錯誤有概括性了解就足以使著作註冊無效。
原告Unicolors於今（2021）年初向最高法院提交請願書，認為第九聯邦巡迴法院此一認定打破了先例判決。原告Unicolors主張，要使著作註冊無效，必須著作權人登記時有主觀上的重大錯誤，不能僅因著作權人對於法律或事實的誤解所產生的錯誤，就使得著作註冊無效。而被告H&M則再次強調該法條使用”knowledge”一詞，表示著作權人僅須對該錯誤事實有認知即可，解讀該法條時不應侷限於詐欺的主觀要件。
美國最高法院於日前聽取了Unicolors與H&M針對「著作註冊含有錯誤資訊」是否足以導致註冊無效的口頭辯論，目前預計於明（2022）年6月作出判決，若最高法院採認第九聯邦巡迴法院的見解，將有可能造成許多美國著作註冊無效的結果，值得業界留意。
「本文同步刊登於TIPS網站（https://www.tips.org.tw ）」
- TIPS
- Justices to Weigh Registration Challenges in H&M Copyright Case
- U.S. Supreme Court questions H&M’s bid to sew up copyright win
- SCOTUS Hears Oral Arguments in Unicolors v. H&M Case that Could Redefine Copyright Registration Standards
- Justices Express Frustration Over Question Presented in Unicolors v. H&M, But Lean Toward Preserving Copyright Registration
- Unicolours v. H&M: Copyright Registration Validity
莊越程
高級法律研究員 編譯整理
Kyle Jahner, Justices to Weigh Registration Challenges in H&M Copyright Case, Bloomberg Law, Nov. 05, 2021, https://news.bloomberglaw.com/ip-law/justices-to-weigh-registration-challenges-in-h-m-copyright-case (last visited Dec. 08, 2021).
Blake Brittain, U.S. Supreme Court questions H&M’s bid to sew up copyright win, Reuters Legal News, Nov. 09, 2021, https://www.reuters.com/legal/government/us-supreme-court-questions-hms-bid-sew-up-copyright-win-2021-11-09/ (last visited Dec. 08, 2021).
Kevin Madigan, SCOTUS Hears Oral Arguments in Unicolors v. H&M Case that Could Redefine Copyright Registration Standards, copyright alliance, Nov. 09, 2021, https://copyrightalliance.org/unicolors-v-hm-oral-arguments-scotus/ (last visited Dec. 08, 2021).
Eileen McDermott, Justices Express Frustration Over Question Presented in Unicolors v. H&M, But Lean Toward Preserving Copyright Registrations, IPWATCHDOG, Nov 8, 2021, https://www.ipwatchdog.com/2021/11/08/justices-express-frustration-question-presented-unicolors-v-hm-lean-toward-preserving-copyright-registrations/id=139686/ (last visited Dec. 08, 2021).
Susan M. Kayser, Unicolours v. H&M: Copyright Registration Validity, THE NATIONAL LAW REVIEW, June 22, 2021, https://www.natlawreview.com/article/unicolours-v-hm-copyright-registration-validity-0 (last visited Dec. 08, 2021).
為解決日益猖狂的網路侵權行為，挪威政府已提出著作權法修正草案，針對侵害著作權及網路盜版行為處以罰金及三年以下有期徒刑之刑責。其中最主要的就是要遏止破解DVD及CD之科技保護措施以及處罰提供軟硬體進行破解之行為。不過，在修正草案下，為個人使用之目的而複製CD或DVD之行為，即便在此過程中意味有破解科技保護措施之行為存在，仍不構成違法；但是，若破解科技保護措施而將CD歌曲轉換成MP3格式則構成侵權行為。 此一修正案的提出雖獲業界一致喝采，但是亦受到學者的抨擊，認為此修正案內容定義不清，完全無法執行。由於挪威國會預計於今年三、四月審查此案，若能順利過關，最快將於今年七月正式施行，不過未來如何發展，仍存在相當變數，值得追蹤觀察。
半導體面板設備 進口將免關稅工業局預計明年和財政部研商修改海關進口稅則，給予廠商進口國內無產製的半導體、面板設備的關鍵零組件時，免課關稅的優惠，以提升國內兩兆產業自給率，在2008年分別提升至25%和50%的水準。包括奇美、彩晶、華映等面板廠都對提高設備自給率很有興趣。工業局指出，全球面板業市場，已成為我國和韓國互相較勁的局面，韓國目前設備自給率已達40%，並計畫在2008年達到80%水準，但我國面板設備自給率目前只有12%，不但主控權掌握在外國設備廠手裡，利潤也被賺走。如果國內面板廠可以提高設備自給率，可以節省成本30%至50%，獲利將可以大幅提高。 工業局表示，由於我國半導體與平面顯示器兩兆產業在晶圓代工帶動下及筆記型電腦與LCD顯示器的大量需求下持續成長，除產值大幅成長外，在設備需求上，台灣將分別占有15%及40%以上的全球市場，國內每年設備投資總額也將高達2,000億元以上，但是卻有九成以上仰賴進口。除了以租稅減免，提高國內面板及設備業者投入設備研發、生產的誘因外，工業局明年起每年也將投入近億元的經費，以科專計畫、主導性新產品研發補助等，協助國內設備業者提升研發及生產能力。 由於我國已成為全球半導體及面板的重要生產廠商，每年進口設備金額十分龐大，工業局也將運用此優勢，吸引國外大廠來台設立研發中心或與國內設備業者合作，投資生產製程設備。為鼓勵兩兆產業中心廠使用國產設備，對使用國產設備達一定比例之廠商，工業局也將研議相關的獎勵措施。
美國發起「投資報酬計畫」（Return on Investment Initiative, ROI）全面檢視科研成果商業化法制川普總統在2018年4月發布「總統管理議程」（President’s Management Agenda）將國家科研成果商業化之發展視為「聯邦跨機關優先目標」（Cross-Agency Priority Goal, CAP Goal）。為維持美國全球科技創新領先地位，美國政府每年投資約1500億美元於各聯邦所屬大學與研究機構進行科技研究。美國國家標準與技術中心（NIST）與白宮科技政策辦公室（OSTP）聯合發起「投資報酬計畫」（Return on Investment Initiative, ROI），宗旨為釋放美國創新（Unleashing American Innovation），讓政府投資預算發揮科研補助之最大效益。 計畫目的包括：1.評估現行政府從事技術移轉指導原則，檢視應予以維持與待改革之處；2.吸引後期研發、商業化與先進製程的技轉投資，並降低法規阻礙；3.支持科研創新產官學合作模式與技轉機制；4.有效移除技轉阻礙以利加速技轉成效，並聚焦於國家重要產業發展的新興措施；5.評估聯邦政府資金運用指標成效；6.創造激勵學研機構提升技轉成效之誘因。 NIST調查指出，阻礙技轉發展之原因包括：1.技轉與智慧財產權協商所涉高額交易與時間成本；2.不同政府單位對法規之解釋、適用與實踐意見相歧；3.智慧財產權保護不足、技術授權使用限制與政府行使介入權（march-in rights）限制；4.公務員參與科技新創與衍生企業（spin-off）限制與利益衝突規範。此ROI計畫已於2018年7月30日完成各方意見徵詢，總計共104份。預計於2019年年初，做出完整分析報告與法制建議。
商標權人的好消息—歐盟法院判決巴黎萊雅(L’Oreal)勝訴歐盟法院(European Court of Justice; 簡稱ECJ)於2009年6月18日判決，確認法國化妝品公司- 巴黎萊雅(L’Oreal SA)之競爭廠商-Bellure NV(簡稱Bellure公司) 有侵害巴黎萊雅之商標權，此一判決對於刻意仿冒之廠商予以重擊，也更擴大著名商標權人的商標保護範圍。 Bellure公司所販售及製造的香水，係仿似巴黎萊雅所製造香水的味道、瓶身及包裝，且更以”smell-a-like”的商品價格比較表做為廣告宣傳，藉由「搭便車」的方式推銷Bellure之產品。 歐盟法院認為，縱使Bellure的廣告宣傳及產品本身，並未直接和巴黎萊雅的產品產生商標混淆誤認的可能，且並未對巴黎萊雅造成直接的損害，但Bellure如此「搭便車」行銷自己產品的方式，確實是以不正當的廣告方式獲取不公平的利益，並銷售自已的產品。 本案將使商標權人對於日漸複雜的侵害類型獲得保障，如：仿冒品的販售及網路銷售等；此外，對於產品在做宣傳時也要小心使用比較性的文字(如：僅做產品性質差異的比對而非產品價格的比對)，以免侵害他人商標權。