知名品牌Burberry槓上好萊塢知名男星Bogart肖像權及商標權
Burberry近期在社交網站臉書(facebook)的動態時報上上載了一張Bogart穿著Burberry風衣的照片，照片上傳後隨即吸引了上千萬粉絲按讚，但熱潮的席捲下也引來了侵權風波。
該照片為1942年"Casablanca"電影劇照，主角人物為於1957年去世的Bogart，其被美國電影協會公認為美國電影史上最棒的男性演員。因為Bogart於電影中傳神的飾演Rick Blaine角色，不僅在電影粉絲心中留下鮮明的文化表徵(cultural icon)，更使得該張劇照贏得最佳照片獎(Academy Award for best picture)。
正因為Bogart的知名度以及該張電影劇照的受歡迎程度，Bogart後裔對於Burberry這樣的使用提出了抗議。Bogart後裔要求Burberry停止使用該張劇照，否則就要提起訴訟控告Burberry侵害Bogart的肖像權和商標權。在接受到Bogart後裔的要求後，Burberry隨即於紐約聯邦法院提出確認之訴，請求法院確認其使用並未侵害歸屬於Bogart後裔的商標或肖像權。因應Burberry的提告，Bogart後裔隨即於加州州法院提起商標侵權訴訟，請求法院發出禁制令，停止Burberry再使用Bogart的名字和任何照片。
雙方針對此一爭議各有主張及堅持。Burberry聲明該劇照是向專門從事照片、影像授權業務的Corbis公司取得授權而來，其主張使用該劇照主要是要描述Burberry在時尚產業的悠久歷史，以及該品牌的重要性及影響性，其並非利用該劇照來達到行銷Burberry的目的，所以其不認為開始用有任何侵權問題。此外，Burberry認為將該劇照使用在臉書的動態時報上這樣的行為是受到美國憲法第一修正案言論自由的保護。
Bogart後裔則認為Burberry使用劇照於市場行銷相關素材/媒介上，可明確看出其有意於Burberry實際及潛在消費者心中，將Burberry品牌及產品商業性連結至Bogart名人形象上，所以Burberry的行為已侵害到Bogart的商標權和肖像權。
Burberry及Bogart後裔雙方因應不同州法律採用策略性訴訟技巧，分別於紐約及加州提起訴訟，知名品牌和知名男星後裔的商標及肖像權之爭正式開戰，法院判決結果值得後續關注。
- Julie Andrews, Burberry Defends Right To Use Humphrey Bogart Image In Facebook Timeline, WebmediaBrands
- Burberry Claims No trademark Infringement Over Humphrey Bogart Image, SanDiegoTrademark Attorney Blog
- Don Jeffrey and Edvard Pettersson, Burberry Seeks Ruling It’s Not Violating Bogart Trademark, Bloomberg
施品安
副主任 編譯整理
Burberry Claims No trademark Infringement Over Humphrey Bogart Image, SanDiegoTrademark Attorney Blog, May 7, 2012, http://www.sandiegotrademarkattorney.pro/2012/05/burberry-claims-no-trademark-infringement-over-humphrey-bogart-image.html (last visited May 10, 2012)
Julie Andrews, Burberry Defends Right To Use Humphrey Bogart Image In Facebook Timeline, WebmediaBrands, May 3, 2012, http://allfacebook.com/burberry-defends-right-to-use-humphrey-bogart-image-in-facebook-timeline_b87807 (last visited May 10, 2012)
世界智慧財產權組織(WIPO)已於2005年初正式宣告收到第一百萬件國際專利申請，並向全世界的創新者表示敬意。國際專利的申請係規範於〔專利合作條約〕(PCT)，WIPO總幹事卡米爾‧伊德里斯博士對PCT創建26年歷史上的這一里程碑表示技術進步的步伐在大大加快，並反映了智慧財產權制度對刺激技術發展和豐富公有知識領域所作出的貢獻。 PCT簡化了公司和發明者在多個國家獲得專利權的程序，且公司和發明者如以各自國家專利制度所規定的規則和條例辦理專利申請事宜，則有可能發生喪失專利權的情況。 PCT體系的成員包括美國、日本、德國、英國和法國等先進發展國家，惟部份發展中國家所提出的國際專利申請量也正持續快速增加，表現最為突出的是印度與韓國，這兩個國家在2003年的國際專利均呈現倍數成長的趨勢。
韓國公共行政安全部制定《公部門AI倫理原則》草案，以提升民眾對公部門應用AI之信任2025年11月，韓國公共行政安全部（Ministry of the Interior and Safety，下稱MOIS）於新聞稿宣布制定《公部門AI倫理原則》草案，追求公益、公平無歧視、透明、問責明確、安全性及隱私保護等六大核心價值，旨於促進創新、提升民眾對公部門應用AI之信任。 一、適用範圍 《公部門AI倫理原則》草案適用對象為公部門，包含中央、地方政府機關等，其性質為不具強制力的指引。 二、檢核表分三階段漸進式管理 《公部門AI倫理原則》草案依AI 應用的複雜程度分為三階段漸進式管理，設計最高達90個細項的檢核表（Checklist），惟目前尚未公開詳細內容： （一）第一階段：基礎導入（AI基礎應用） 針對技術引進的初步活用階段，共包含31個檢核項目，旨在建立基礎的倫理合規防線。 （二）第二階段：進階應用（AI決策支援） 適用於AI提供資料分析與建議以輔助人員進行行政決策的情境。隨著影響力提升，檢核項目擴增至74個，強化透明性與責任性的審查。 （三）第三階段：深度融合（AI自主決策） 針對AI具備高度自主決策權的高風險情境（如自主化服務或複雜判斷），執行最嚴密的倫理檢查，共達90個檢核項目。 建議公部門依檢核表自行檢查，並依結果建立「調整與回饋」的循環機制，以因應不斷變化的技術環境。 MOIS部長指出，未來將進一步蒐集學界意見以完備倫理原則，並開發一套AI倫理原則之培訓課程，確保一線能落實執行這90個檢核項目，保障人權與基本權利。 由於目前未見90個檢核項目內容，值得持續追蹤後續進展。 本文為資策會科法所創智中心完成之著作，非經同意或授權，不得為轉載、公開播送、公開傳輸、改作或重製等利用行為。 本文同步刊登於TIPS網站（https://www.tips.org.tw）
歐洲議會初步通過化妝品新法案，奈米化妝品成為規範之列奈米科技在化妝品領域之應用實例日益增多，對於此類產品之管理趨向也成各界關注的重點，可惜國際間遲遲未有突破性進展。 今(2009)年3月24日，歐洲議會初步通過化妝品規則之新法提案（提案編號：COM(2008)0049-c6-0053/2008-2008/0035(COD)），未來若獲正式通過，將可直接適用於歐盟各國。 就實質內容而言，歐盟在該規範中首次納入奈米科技之考量。其所界定之奈米材料為：「一種具有非溶解、抗生物性之材料，係經由人為單一或多次外部切割或內部建構，尺寸範圍在1至100奈米之間」。為確保奈米化妝品之安全性，該規範透過強制通報、安全評估，以及禁止使用有害人體健康之物質等機制進行管理。此外，化妝品倘若含有或使用奈米材料，製造人必須在產品包裝上之內容物清單中加以標明。 歐洲議會是以633位之多數票一讀通過了該法案，不過也有29位投票反對、11位放棄表示意見。 此外，各界對此立法之反應不一，消費者團體認為應儘早實施該法案；歐洲議會綠黨議員則對法案中的奈米材料之定義不予認同。 根據歐盟執委會評估，目前約有5%的化妝品使用奈米材料，主要是市面上銷售之防曬油、口紅以及抗老化乳霜。隨著此項運用趨勢的發展，很多消費者團體抱怨立法過於緩慢而無法趕上市售產品之發展腳步，而本次立法可望為奈米化妝品之管理開展新的契機與方向。
美國簽署晶片和科技法案，全球科技業將掀起波瀾美國近日為防堵中國、其他受關注國家如俄羅斯等國掌握半導體等高科技行業關鍵技術，遂致力於加強培養其本土之半導體及高科技通訊產業。於美國時間2022年8月9日美國總統拜登簽署 「2022年晶片和科技法案」 （CHIPS and Science Act 2022），該法案除可作為2021年頒布之「美國電信法案」之補助資金來源，發展開放式無線電接取網路（Open Radio Access Network, ORAN）外，亦有望大幅度提升美國本土晶片生產量。 本法案提高美國聯邦政府對科學技術研究及開發專案之授權，除授權美國商務部（Department of Commerce , DOC）、國防部（Department of Defense, DOD）外，還結合國務院（Department of State, DOS）透過資金補助之方式，發展影響美國競爭力及國家安全至關重要之半導體製造等高科技產業、人工智慧、量子計算等科學研究，本法案整體編列之預算高達2800億美元，至2027年時，授權金額預計將達1740億美元，而其中將挹注超過520億美元之資金用於發展美國本土晶片之生產及研發。 此外，該法案設有靜態限制，禁止接受補助之半導體企業投資以電子設計自動化（Electronic design automation, EDA）工具設計或製造晶片之中國公司，換句話言，即受補助之企業不得於十年內投資或擴大生產中國製低於28奈米之先進晶片。本法案亦提供25%之稅收優惠予於美國建造、裝設晶片廠之業者，以鼓勵企業進駐美國藉以提升美國生產之晶片總量，同時藉由企業之投資帶動美國各地經濟發展，提高就業率。 藉由本法案之制定，有望降低美國對其他國家晶片之依賴，並得藉此發展科技研究，對未來全球高科技產業供應鏈將造成偌大影響，值得持續關注。