亞利桑那州可望通過情色報復法，美國防治情色報復將再添一州
美國亞利桑那州曾於2014年通過違反本人意願散布隱私內容之條文（泛稱為情色報復法Revenge Porn Law），構成要件未涵蓋行為人需有傷害的主觀不法構成要件，只要未經本人同意散布隱私內容即有可能觸犯本法而被判重罪（Felony），最高將可處三年又九個月之有期徒刑。然而，因構成要件過於廣泛，甚至未排除具新聞、藝術、教育價值之內容，未考慮本人之隱私期待性和傷害有無，美國公民自由聯盟遂代表出版業、媒體業和攝影業等，以該條文侵害言論自由有違憲之虞，於同年9月向亞利桑那州提告。該案於2015年7月10日達成和解，亞利桑那州地方法院宣告該條文將不會生效施行。
在經過漫長的修法後，亞利桑那州參議院最終於2016年3月7日無異議通過情色報復法之最新修法法案（House Bill 2001），待州長簽署核准後便立即生效施行。本次修法與2014年的版本不同處為，檢察官需證明隱私內容之本人具有合理的隱私期待，若被害人曾將自拍的影像寄送與他人，更需證明被害人未有分享的意思。此外，檢察官需證明行為人具有意圖傷害、騷擾、威脅或迫使他人之主觀意思。在此條文尚未通過前，實務上已有檢察官多次反應現行法無從對違反本人意願散布隱私內容之行為論罪，至多僅能以網路跟蹤或霸凌法等追究，對受害人保護甚為不周。
- Ariz. H.B. 2001, 52nd Legis., 2nd Reg. Sess. (Mar. 7, 2016)
- Elizabeth Nolan Brown, Arizona’s Unconstitutional “Revenge Porn” Law Is Officially Dead, Reason, July 10, 2015
- Judge Halts Enforcement of Unconstitutional Nude Photo Law in Arizona, ACLU, July 10, 2015
- Final Decree, Antigone Books L.L.C., et al. v. Mark Brnovich, Attorney General of the State of Arizona; et al. (2:14-cv-02100-PHX-SRB, July 10, 2015), available as document no. 114, at
蕭郁溏
法律研究員 編譯整理
Final Decree, Antigone Books L.L.C., et al. v. Mark Brnovich, Attorney General of the State of Arizona; et al. (2:14-cv-02100-PHX-SRB, July 10, 2015), available as document no. 114, at http://mediacoalition.org/files/litigation/antigone-books-brnovich-final-decree.pdf (last visited Mar. 8, 2016). Judge Halts Enforcement of Unconstitutional Nude Photo Law in Arizona, ACLU, July 10, 2015, https://www.aclu.org/news/judge-halts-enforcement-unconstitutional-nude-photo-law-arizona (last visited Mar. 08, 2016).
Elizabeth Nolan Brown, Arizona’s Unconstitutional “Revenge Porn” Law Is Officially Dead, Reason, July 10, 2015, https://reason.com/blog/2015/07/10/revenge-porn-law-in-arizona-struck-down (last visited Mar. 08, 2016).
Ariz. H.B. 2001, 52nd Legis., 2nd Reg. Sess. (Mar. 7, 2016), available at https://legiscan.com/AZ/text/HB2001/2016 (last visited Mar. 08, 2016).
中國大陸為鼓勵科技研發與創新，陸續訂有《科學技術進步法》（最近一次修正為2007年12月29日，自2008年7月1日施行，以下簡稱科技進步法）及《促進科技成果轉化法》（原為1996年5月15日訂定，最近一次修正已於2015年10月1日起施行），並分別規範智慧財產權相關內容。 其中，關於中國大陸政府補助科技計畫產出之智慧財產權，依科技進步法第20條第1項規定，凡政府補助之科技計畫研發成果，其產出之發明專利權、電腦軟體著作權、積體電路布局權及植物品種權，除涉及國家安全、國家利益或重大社會公共利益者外，由該科技計畫項目承擔者（參照科技進步法第5條第2項規定，可能為組織或個人）依法取得。 而相關科研工作者依前述規定取得成果後，如欲進行運用或轉化，依《促進科技成果轉化法》第2條規定：「本法所稱科技成果轉化，是指為提高生產力水平而對科技成果所進行的後續試驗、開發、應用、推廣直至形成新技術、新工藝、新材料、新產品，發展新產業等活動」，需依該法相關規範辦理，如第12條可透過政府資源、融資、創投等支持科研成果轉化，且其運用方式如第19或45條具相當彈性，並可讓執行人員獲得一定的收入。
概念驗證中心（Proof of Concept Center, PoCC）概念驗證中心（Proof of Concept Center, PoCC）源自美國研究型大學各校為加速大學科研成果商業化，於內部建立的專業型機構。全美第一所PoCC是2001年設立於加州大學聖地牙哥分校的「里比西中心」（the William J. von Liebig）。 為了因應美國大學科研成果商業化過程中所遇到的阻礙，例如：資金與資源缺乏導致研發人員動力不足、研發人員對於市場需求資訊不對等、技術開發提升緩慢以及政府激勵政策不足等問題。PoCC以解決大學與企業之間存在的各種差異與衝突為目標，並透過下列手段強化科技成果商業化動力，提升商業化績效：1、通過種子基金資助，為無法獲得資金支持的早期研究提供經費挹注；2、為大學科研成果商業化提供市場顧問與技術開發諮詢，以及智慧財產權保護等諮商；3、創業人才教育及培訓，促進創業文化並進行創業教育，以增強大學與產業協同創新能力。
韓國中小企業暨新創事業部發布「韓國新創政策」，力求成為全球前三大「新創企業之國」韓國中小企業暨新創事業部（Ministry of SMEs and Startups, MSS）於2023年8月30日公布「韓國新創政策」（Startup Korea），是一項提供新創企業中、長期支持的全面性政策。 韓國中小企業暨新創事業部部長李泳（LEE Young）指出，韓國新創生態圈受政府積極推動創新創業政策以及鼓勵創業的大力支持不斷蓬勃發展。而政府創新創業政策在面對近年來勢洶洶的全球數位浪潮中，必須有所變革創新，方足以因應現今數位經濟時代下之產業轉型需求，從而在競爭激烈的全球市場中勝出。 「韓國新創政策」提出三大重點策略： （1）超越邊界（Beyond Boundaries）：MSS將打造國際級的創業生態新系統，以加速韓國新創企業與國際接軌。 放寬外國專業人才工作簽證（E-7 Visa）申請標準，向擁有創新技術發展可行性的外國新創提供創業家簽證（Startup Visa）和資金，以建立更具包容性的創業生態系統。 （2）團結一致（Solidarity）：MSS將推動政府民間攜手整合資金投入新創，同時還將為新創企業引介更多的財務資源。 設立「韓國新創基金」（Startup Korea Fund），由政府與民間共同投資，目標是到2027年時基金總規模可達2兆韓元，將以具先進科學和工程創新技術的深度技術（Deep Tech）新創，例如AI、半導體等為重點投資對象。此外，亦將透過更多元的投資和貸款模式，增加新創企業取得資金的管道。 （3）產業群聚、平等機會以及開放式創新（Regional Startup, Equal Opportunity + Open Innovation）：MSS將推動新創產業群聚生態鏈的發展，以及加速企業集團與新創企業的鏈結。 計劃建構新創產業群聚生態鏈，以帶動長期被忽視的區域產業發展可能性。例如將在定錨企業（Anchor Company）、大學以及研究機構緊密生活商圈中建設Space-K創業中心（Provincial Space-K）。又，推動新創與企業間之合作項目擴大到AI以及生物技術等十大新興產業。 藉由「韓國新創政策」，韓國力求實現新增5家百大新創獨角獸，以及成為全球前三大「新創企業之國」之目標。 面對全球數位轉型浪潮，台灣政府應從國際動向觀察政策趨勢，韓國中小企業暨新創事業部發布之「韓國新創政策」，非常值得我國參考借鏡。
政府重申並未放寬輸往中國大陸半導體晶圓製程設備之出口管制由於國際出口管制組織「瓦聖那協議」（ Wassenaar Arrangement,WA）於去年(93)底修訂半導體晶圓製程技術水準之出口管制規定，由0.35微米放寬為0.18微米；國貿局為配合「瓦聖那協議」之修訂，亦於今年9月公告半導體晶圓製程技術之出口管制修正為0.18微米。 然，我國半導體晶圓製造廠商申請赴中國大陸投資，主要依據經濟部之「在大陸地區投資晶圓廠審查及監督作業要點」辦理，其中第四點申請要件明顯規定「大陸投資事業製程技術限於0.25微米以上」。此外，在國貿局「限制輸出貨品總彙表」更有規範半導體晶圓製造等相關設備之輸出規定121：需要有國貿局簽發輸出許可證；輸出規定488：（一）輸往大陸地區者，應檢附經濟部投資審議委員會核准投資文件；輸往大陸以外地區者，應檢附保證絕不轉售大陸地區之切結書。（二）外貨復運出口者，另檢附原海關進口證明文件。（三）屬戰略性高科技貨品列管項目者，除應申請戰略性高科技貨品輸出許可證，並檢附上述文件外，應另依戰略性高科技貨品輸出入管理辦法規定，檢附下列文件：１、進口國核發之國際進口證明書、最終用途證明書或保證文件。２、外貨復運出口者，如原出口國政府規定需先經其同意者，應另檢附原出口國政府核准再出口證明文件；其於原進口時領有我國核發之國際進口證明書、最終用途證明書或保證文件者，應再檢附該等文件影本。 國際貿易局強調，我國目前開放半導體晶圓製程技術輸往中國大陸仍限為0.25微米以上，並未放寬輸往中國大陸之出口管制。