日本與歐盟達成GDPR適足性認定之合意,預定於今年秋天完成相關程序

  日本個人情報保護委員會於5月31日與歐盟執行委員會,對於取得之個人資料跨境傳輸相互承認達成實質合意。歐盟今年5月施行之歐盟個人資料保護規則(European Union General Data Protection Regulation,GDPR)對於個人資料之跨境傳輸係採「原則禁止、例外允許」模式,因此只有在符合例外之情形下,個人資料才能進行跨境傳輸,而例外獲得許可的情形包括由企業自主採行符合規範的適當保護措施,或取得個資當事人明確同意等方式。此外,GDPR也規定對第三國或地區個人資料保護水平是否達到GDPR標準,為適足性認定制度,取得此一認定資格者,即可自由與歐盟間進行個人資料跨境傳輸。目前有瑞士等11個國家及地區取得認定,日本則尚未取得。

  日本為了減輕企業的負擔,2016年7月個人情報委員會決定處理方針,以取得相互認定承認為目標;於2017年1月歐盟執行委員會政策文書發表,將日本列為適足性認定之優先國家,將持續進行雙方後續對話。自2016年4月自2018年5月為止累計對話協商53次。於2017年5月施行修正之個人資料保護法,新導入域外適用規定,並對於國外執行當局為必要資訊提供為相關規定。依據上述對話意見,今年2月14日審議擬定「個人資料保護法指引-歐盟適足性認定之個人資料傳輸處理編(個人情報の保護に関する法律についてのガイドラインーEU域内から十分性認定により移転を受けた個人データの取扱い編)」草案,於今年4月25日至5月25日完成草案預告及意見徵集程序,預定於今年7月上旬訂定發布。其後,將於今年秋天完成歐盟與日本間相互指定與認定程序。亦即,個人情報保護委員會基於個人資料保護法第24條規定,指定歐洲經濟區(EEA)為與日本有同等水準之個人資料保護制度之外國,而歐盟執行委員會依據GDPR第45條規定,認定日本為具備適足保護水準。相互認定後,日本與歐盟間得相互為個人資料傳輸,如有相互協力必要性發生時,個人情報保護委員會及歐洲執行委員會應相互協議以為解決。

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美國國家標準及技術研究院公布晶片法補助申請細節及限制

美國商務部(Department of Commerce, DOC)旗下國家標準及技術研究院(National Institute of Standards and Technology, NIST)於2023年2月28日發布《晶片與科學法》(CHIPS and Science Act)補助具體內容,重點如下: 一、申請時間:補助採滾動式錄取模式(rolling basis),先進製程製造補助將於2023年3月31日起開放預先申請(pre-application)與正式申請(full application);成熟製程與其他相關生產設施的製造補助,將分別於2023年5月1日及6月26日開放預先申請及正式申請。 二、補助方式與金額:補助分為直接補助(direct funding)、聯邦政府貸款(federal loans)或第三人提供貸款並由聯邦政府提供擔保(federal guarantees of third-party loans)。直接補助的金額上限預計為預估資本支出的15%。每個計畫可透過一種以上之方式獲得補助,然整體補助金額不得超出預估資本支出的35%。 三、申請流程 1.意向聲明(statement of interest):申請人須提供半導體製造工廠投資計畫的簡要說明,俾利NIST旗下晶片計畫辦公室(CHIPS Program Office)為未來審查進行準備。 2.預先申請:申請人提供更詳盡的計畫內容。晶片計畫辦公室將給予調整意見。 3.正式申請:依照晶片計畫辦公室給予的意見修改後,申請人應遞交完整的計畫申請書,內容必須包含投資計畫的技術與經濟可行性之分析。晶片辦公室審核完畢後,會與申請人簽訂不具約束力的初步備忘錄(non-binding Preliminary Memorandum of Terms),記載補助方式與金額。 4.盡職調查(due diligence):在經過上述程序後,晶片計畫辦公室如認為申請人合理且可能(reasonably likely)取得補助,將對申請人進行盡職調查。 5.補助發放:通過盡職調查後,DOC將開始準備發放補助。 四、補助規範與限制 1.禁止買回庫藏股(stock buybacks):受補助者不得將補助款用於買回庫藏股。 2.人力資源計畫:申請人要求的補助金額若超過1億5千萬美元,須額外說明將如何提供員工可負擔且高品質的子女托育服務。 3.建造期限:受補助者必須於DOC所決定的特定日期(target dates)前開始或完成廠房建造,否則DOC會視情況決定是否收回補助。 4.分潤:補助金額超過1億5千萬美元時,受補助者須與美國政府分享超過申請計畫中所預估之收益,但最高不超過直接補助金額的75%。 5.不得於特定國家擴產與進行研究:受補助者於10年內或與DOC合意的期間內,除特定情況下(15 U.S.C. § 4652(a)(6)(C)),不得於特定國家,如中國,進行大規模半導體製造的擴產(material expansion)、聯合研究(joint research)或技術授權(technology licensing),違反者將會被DOC收回全額補助。

美國《代幣分類法》(Token Taxonomy Act)草案

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