歐盟執委會(European Commission, EC)於2019年10月18日發布電子政府基準報告(eGovernment Benchmark 2019: trust in government is increasingly important for people)。電子政府基準是歐盟的年度檢測工具,用以確認公部門中資通訊技術使用狀況,亦是歐盟2016-2020年的重點政策之一:2016年4月,歐盟執委會發布「歐盟e政府四年行動計畫」(EU eGovernment Action Plan 2016-2020),歐盟應致力落實「公共行政現代化」、「跨境數位行動服務」和「加強公部門與公民和企業的數位互動」等三面向。電子政府基準報告即因應此一政策方向而生。
電子政府基準的評測指標有四:以使用者為中心(User centricity)、透明度(Transparency)、跨境移動(Cross-border mobility)、其他關鍵促成因素(Key enablers)。報告中評估2019年總體表現最佳的國家是馬爾他、奧地利等;立陶宛和芬蘭等國則為其次;表現低於平均者則多為東南歐國家。報告中亦提到,現階段公民已十分容易在機關官網上取得所需資訊,但相較於提供給一般公民的服務,機關官網對企業提供之服務通常更加完整及清楚。另外,在推行各項電子政府措施時,公民對政府的信任益發重要。唯有公民信任該機關,包含對機關安全在線服務、個人資料透明度、公共網路安全等的信賴,機關數位化改革才能常態運作。因此,電子政府的發展是建立在人們信任相關數位服務,並與政府交流時更容易知悉並利用該服務。
再觀我國電子化政府之發展,自民國87年至今已進入第五階段。初期致力建設政府骨幹網路和電子認證、90年代持續深化及擴大政府網路應用,並推動10大旗艦計畫實現網路政府主動、分眾、持續及紮根之服務。101年後建構電子化政府之設備、網路和應用服務,發展資訊服務系統整合、全程服務及跨部門協調。近期分別有「第五階段電子化政府計畫-數位政府」和「服務型政府推動計畫」,以資料驅動、公私協力、以民為本之核心理念,透過巨量資料、開放資料和服務個人化等工具,發展跨機關一站式整合服務及打造多元協作環境,落實數位政府服務。
本文為「經濟部產業技術司科技專案成果」
醫療器材在美國上市所需依循的途徑,為申請510(k)審查或上市前審查(Premarket Approval, PMA)。順序上第一步,必須在90天前向美國食品藥物管理局(U.S. Food and Drug Administration, FDA)提出「上市前通知」(Premarket Notification, PMN)申請。所謂的510(K),係指美國《食品、藥物及化妝品法》(Federal Food, Drug, and Cosmetic Act, FD&C Act)第510節之規定,在申請的流程中,FDA會審查廠商所提出的佐證,是否具備與已上市的相同器材一樣之「實質相等性」(Substantial Equivalence),若不具備「實質相等性」,即必須進入PMA申請程序。 FDA指出過往機關接受許多不適當的501(K)審查申請,而必須要求這些不適當的申請廠商進一步補充文件,以進行實質審查。FDA指出這樣的程序,進行過度頻繁的審查,而浪費不少寶貴的資源及人力。FDA於2012年8月10發佈「拒絕接受510(K)審查申請之政策」指導文件草案。作為改善與加強501(K)申請流程之效率與有效性。新的指導文件草案之改善目標,係要求廠商必須提出傳統(Traditional)、特殊(Special)、簡略(Abbreviated)三種不同的申請所需之審查文件,FDA會先進行審查文件是否具備的預先審核,始進行實質審查。廠商必須依照指導文件草案內含的核對表(Checklist)所規定必須提交之審查文件,FDA有15天的時間回應廠商是否完成繳交,或要求廠商在新的15天之內補件,而承認 (Acceptance)形式審查完備,始進行實質審查。廠商亦可針對缺繳之文件,說明不提供之理由,並提出相關證明。指導文件草案提供以下幾個準則,提供審查機關審視核對表完備與否: 該產品是否為器材; 該項申請之對象是否正確; 是否為適當合法510(k)申請; 是否有相同的器材經PMA程序核准上市; 所提出的臨床數據,申請者是否受限於「申請規範政策」(Application Integrity Policy, AIP)。 FDA透過這樣預先審查之方式,檢視廠商所提出之申請,是否符合形式的要件,而決定是否進行實質審查,以避免浪費行政機關的資源與人力進行不適當的審查,希冀改善FDA目前501(k)審查申請制度之效率與有效性。
日本經產省為了促進智慧家庭(smart home)計畫,以促進資料共享與利用。經產省為了在智慧家庭領域創造新事業,整備相關資料活用環境,蒐集共有及分析從多種多樣機器及服務所實際產出之資料,於2017年8月開始實施實證實驗。在實施前,為了使參加實證之民間公司間,得為資訊合作而完備相關規則及保安對策,於5月24日召開「智慧家庭資料活用環境整備推進事業」檢討會。因物聯網(IoT)的擴大得以蒐集龐大資料,以及現在人工智慧(AI)解析能力提高下,期待在各種領域提高生產效率及創造新的事業模式。特別是在智慧家庭領域,其在「新產業構造願景的中間整理」(2016年4月27日、產業構造審議會新產業構造部會)中,為有力重要領域。因此,以IoT技術等使家庭內機器網路化,活用此一資料,除了使既存事業模式發生變革或創造新事業模式外,也期待可以透過把握製品之使用資訊,而提高產品回收(recall)率,並促進資源回收以及家庭部門節能化等相關社會課題解決上。為此,本事業係以對於家庭內機器網路化及透過此而創造新事業為目標,整備事業環境與社會課題及各主題新事業服務創造相連結,因應每個人的生活模式而使得生活空間客製化成為可能,實現智慧家庭之社會目標。
韓國2月通過《加強保護國家高科技戰略產業競爭力特別措施法(半導體特別法)》韓國2月通過《加強保護國家高科技戰略產業競爭力特別措施法(半導體特別法)》 資訊工業策進會科技法律研究所 2022年3月23日 韓國政府意識到在高科技產業競爭環境中培育知識人才,以及保護國家戰略產業發展的重要性。2019年修訂《防止產業技術外流及產業技術保護法》(下稱產業技術保護法),針對國家核心技術外流及侵害行為加以重罰外;復於2021年12月提出《國際霸權技術競爭下之科技保護策略》(下稱韓國科技保護策略),並於2022年2月3日通過《加強保護國家高科技戰略產業競爭力特別措施法》[1],於同年8月4日生效。分別說明如下: 壹、韓國高科技保護機制發展趨勢 韓國核心科技保護法制體系的特色,是在《防止不當競爭及營業秘密保護法》禁止竊密及《對外貿易法》出口管制之外,訂定了保護產業技術之專法《產業技術保護法》,並以韓國科技保護策略,宣告政府科技保護策略整體方針。 一、產業技術保護法 (一)立法目的 韓國於2006年10月27日制定《產業技術保護法》,該法第1條載明該法立法目的為:「防止工業技術的過度洩露和保護工業技術,以加強韓國工業的競爭力,促進國家安全和國民經濟的發展。」該法規範之國家核心技術係指在國內外市場中,具有較高經濟價值或高度產業成長潛力之技術,此類技術若外洩到國外,對於國家的安全保障及國民經濟發展,將造成重大惡劣影響之虞。 (二)產業技術保護委員會選定國家核心技術防止外流 《產業技術保護法》規定由產業通商資源部部長擔任產業技術保護委員會的委員長,成員包括財政部、教育部、科學部、外交部、法務部、國防部、農林部、保健部、環境部、交通部、海洋部、中小事業部次長、智慧局局長以及民間代表。 各部會由主管業務之產業技術範圍中選定國家核心技術名單,再由產業通商資源部部長及各主管部會部長選定國家核心技術,最後經由產業技術保護委員會經法定程序予以指定、變更、撤銷。該委員會主要根據該產業技術對國家安全保障及國民經濟衍生效益、國內外市占率,以及產業影響力,來進行考量國家核心技術清單,在每年2月底檢討前一年度執行情形,並於10月底更新下一年度國家核心技術及其保護計畫,決定國家核心技術清單。2021年1月產業技術保護委員會審議通過之「國家核心技術指定項目公告」修訂版,指定之國家核心技術包括半導體、顯示器、資通訊、電機電子、機械、機器人、鋼鐵、造船、交通、航太、核能、生命科學等12大領域共71項。 (三)防止國家核心技術外流加重罰則 《產業技術保護法》先後經歷8次修法強化保護力道,最新一次修法是在2019年8月,修法內容包括加強外資管控,凡是國外併購、合併,無論技術是自行開發或政府資助,皆須向政府申報,如果政府認為有影響國安之虞,可下令暫停或禁止;另外是加強技術保護責任,要求國家核心技術之持有及管理者採取必要的保護措施;修法前對於技術外流之懲罰規定僅設有上限(15年有期徒刑及15億韓元),故增訂技術外流至海外之最低罰則為3年以上有期徒刑及15億韓元罰金。 二、韓國科技保護策略 韓國政府2021年12月宣布之科技保護策略,旨在制定各部會科技保護策略方針,以避免韓國核心技術不法外流。該保護策略宣告: (一)將定期檢視國家核心技術之指定、變更與撤銷。 (二)針對國家核心技術清單制定一定執行期間(如5-10年,視技術項目而定)。 (三)規劃於2023年修正《產業技術保護法》,針對外資的認定,增訂間接持股、雙重國籍等情事。 (四)以過去出口管制之企業、投資審查之對象為基礎,將可能持有國家核心技術之企業登錄、加強管制,並建立國家核心技術專家資料庫,以持續監控其出入境。 (五)規劃跨部會合作,包括應用智慧財產局的專利資料庫,認定擁有國家核心技術之相關人員或機構。 貳、《加強保護國家高科技戰略產業競爭力特別措施法》 《加強保護國家高科技戰略產業競爭力特別措施法》(下稱半導體特別法),在《產業技術保護法》之「國家核心技術」外,額外定義「國家高科技戰略技術」,除出口、併購應依現行《產業技術保護法》事先取得產業通商資源部許可外。對於不法侵害國家高科技戰略技術,訂定更嚴厲的罰則;同時針對相關產業提供系統性支援措施。 一、成立由韓國總理主導的「國家高科技戰略產業委員會」,制定5年戰略產業培育及保護的基本計畫。 委員會組成:提高管理層級,由總理為主席,成員包括部會首長、產學研專家,委員人數不超過20名,並由產業通商資源部擔任秘書處。 各領域專門委員會:為協助委員會審查和事先審議,各戰略產業領域得設立專門委員會,每領域委員不超過10名,各專門委員會之主席由「國家高科技戰略產業委員會」主席根據部會首長推薦任命之。 二、「國家高科技戰略技術」由「國家高科技戰略產業委員會」指定,定義為: 影響國家及經濟安全重大者,例如影響供應鏈穩定之半導體技術。 具成長潛力、技術困難度及產業重要性者。 對於相關產業具重大漣漪效益者。 「國家高科技戰略產業」則指研究、開發、商業化國家高科技戰略技術,或以國家高科技戰略技術為基礎,商業化生產產品或服務的產業。 三、加重不法侵害國家高科技戰略技術的罰則:意圖在境外使用或使技術在外國使用,而不法侵害國家高科技戰略技術者,處15年以下有期徒刑、15億韓元以下罰金;未取得許可出口、投資併購而不法侵害國家高科技戰略技術者,處15年以下有期徒刑、15億韓元以下罰金。 四、中央及地方政府應制定培育、保護國家高科技戰略產業必要的政策。有關國家高科技戰略技術的保護,除半導體特別法有規定外,依《產業技術保護法》之規定。< 五、為支持國家高科技戰略產業,提供加速辦理許可、迅速處理環安或職安民事投訴、投入政府預算、減免稅金、培育專業人才等方案。 六、為穩定國家高科技戰略產業供應鏈,政府因自然災害或國際貿易形勢導致相關技術供需穩定有疑慮時,經營者、進出口、運輸、倉儲業者或國營事業,應依據總統令,以六個月為期限,於期間內辦理生產計畫、國內優惠供應方案或設施擴建等事項。 參、代結論:韓國本次《半導體特別法》評析 韓國《半導體特別法》在認定國家高科技戰略技術時,將民間企業或專家的意見,納入國家高科技戰略技術認定與管制機制的決策程序中,綜合考量該技術對國家及經濟安全、技術成長潛力等影響,在最小必要範圍內選定之。另,《半導體特別法》亦特別提出國家高科技戰略產業發展的優惠政策方案,讓該些產業雖因其重要性須受嚴厲管制,但同時也得到政府加速辦理許可、減免稅金等支持。就韓國本次修法,在其認定重要技術的評估方法,以及提供對應配套機制上,值得做為我國未來在保護重要高科技產業做法上的參考。 [1] Cabinet passes National High-Tech Strategic Industries Special Act, Jan. 25, 2022, https://english.motie.go.kr/en/pc/pressreleases/bbs/bbsView.do?bbs_cd_n=2&bbs_seq_n=911 (last visited 2022/03/20)
美國商務部產業安全局擴大對中國半導體製造設備、軟體工具、高頻記憶體等項目之出口管制.Pindent{text-indent: 2em;} .Noindent{margin-left: 2em;} .NoPindent{text-indent: 2em; margin-left: 2em;} .No2indent{margin-left: 3em;} .No2Pindent{text-indent: 2em; margin-left: 3em} .No3indent{margin-left: 4em;} .No3Pindent{text-indent: 2em; margin-left: 4em} 美國商務部產業安全局(Bureau of Industry and Security,簡稱BIS)於2024年12月2日發布《外國生產的直接產品規則補充以及先進運算及半導體製造項目管制精進》(Foreign-Produced Direct Product Rule Additions, and Refinements to Controls for Advanced Computing and Semiconductor Manufacturing Items),並於同日(12月2日)生效,部分管制措施的法律遵循延後至2024年12月31日。BIS開放公眾可以就本次管制提出意見。 因中國的半導體戰略旨在進一步推進中國的軍事現代化、大規模殺傷性武器(WMD)的發展,美國政府認為中國的相關政策與措施,將可能侵害美國及其友盟之國家安全。因此,本次管制之目的旨在進一步削弱中國生產先進節點半導體的能力,包括下一個世代的先進武器系統,以及具有重要軍事應用的人工智慧與先進運算。 為達上述目的,本次管制修正具體擴大的管制項目概述如下: 1. 24種半導體製造設備,包括某些蝕刻(etch)、沉積(deposition)、微影(lithography)、離子注入(ion implantation)、退火(annealing)、計量(metrology)和檢驗(inspection)以及清潔(cleaning)工具。 2. 3種用於開發或生產半導體的軟體工具。 3. 管制源自美國的高頻寬記憶體,以及於美國境外生產且美國管制清單中所列之高頻寬記憶體。 4. 新增對電子電腦輔助設計(Electronic Computer Aided Design)與技術電腦輔助設計(Technology Computer Aided Design)軟體及技術的限制。