產業創新條例因應放寬公司研發抵減、加強留才制度之修正草案

刊登期別
第27卷第3期
 
隸屬計畫成果
經濟部技術處產業科技創新之法制建構計畫成果
 

本文為「經濟部產業技術司科技專案成果」

※ 產業創新條例因應放寬公司研發抵減、加強留才制度之修正草案, 資訊工業策進會科技法律研究所, https://stli.iii.org.tw/article-detail.aspx?d=7061&no=55&tp=1 (最後瀏覽日:2026/03/10)
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美國簽署晶片和科技法案,全球科技業將掀起波瀾

  美國近日為防堵中國、其他受關注國家如俄羅斯等國掌握半導體等高科技行業關鍵技術,遂致力於加強培養其本土之半導體及高科技通訊產業。於美國時間2022年8月9日美國總統拜登簽署 「2022年晶片和科技法案」 (CHIPS and Science Act 2022),該法案除可作為2021年頒布之「美國電信法案」之補助資金來源,發展開放式無線電接取網路(Open Radio Access Network, ORAN)外,亦有望大幅度提升美國本土晶片生產量。   本法案提高美國聯邦政府對科學技術研究及開發專案之授權,除授權美國商務部(Department of Commerce , DOC)、國防部(Department of Defense, DOD)外,還結合國務院(Department of State, DOS)透過資金補助之方式,發展影響美國競爭力及國家安全至關重要之半導體製造等高科技產業、人工智慧、量子計算等科學研究,本法案整體編列之預算高達2800億美元,至2027年時,授權金額預計將達1740億美元,而其中將挹注超過520億美元之資金用於發展美國本土晶片之生產及研發。   此外,該法案設有靜態限制,禁止接受補助之半導體企業投資以電子設計自動化(Electronic design automation, EDA)工具設計或製造晶片之中國公司,換句話言,即受補助之企業不得於十年內投資或擴大生產中國製低於28奈米之先進晶片。本法案亦提供25%之稅收優惠予於美國建造、裝設晶片廠之業者,以鼓勵企業進駐美國藉以提升美國生產之晶片總量,同時藉由企業之投資帶動美國各地經濟發展,提高就業率。   藉由本法案之制定,有望降低美國對其他國家晶片之依賴,並得藉此發展科技研究,對未來全球高科技產業供應鏈將造成偌大影響,值得持續關注。

美政府將加強對抗盜版與仿冒

  美國歐巴馬政府在6月22日公布一份範圍廣泛的智慧財產執法聯合策略計畫(Joint Strategic Plan on Intellectual Property Enforcement),目的是希望協同聯邦各部門增強有關智慧財產權的執法力度,以打擊美國境內與境外盜版與仿冒日益嚴重的問題。   智慧財產執法協調員(Intellectual Property Enforcement Coordinator, IPEC)Victoria Espinel在報告前言指出,打擊仿冒和盜版需要聯邦強而有力的反應;作為全球創新領導者的美國已因為有些國家未能依照法律規定或國際條約來執法或採取不利美國之產業政策而被傷害。此計畫提出33個執法策略行動項目(enforcement strategy action items)來加強智慧財產執法,包括增加執法政策透明度以及美國境內、外執法行動的分享與報導、確保政府各層級間的執法效能與協調、加強美國智慧財產權的國際執法、確保安全的供應鏈以杜絕侵權產品輸入美國等。   舉例而言,該計畫非常關注外國網站線上侵權(online piracy)的問題,認為網際網路不應成為犯罪行為的工具,強調美國政府必須和外國政府、國際組織以及私部門共同合作對抗,並鼓勵內容擁有者(content owners)、ISP業者、廣告經紀商(advertising brokers)、付款處理業者(payment processors)和搜尋引擎業者在尊重合法競爭、言論自由與個人穩私之下,彼此合作謀求實際解決方案。根據報導,盜版已造成美國的影視業年度損失205億美元產值、工作者年度短少55億美元的收入、也減少了原本可帶來多於14萬個的工作職缺,結果使美國年度稅收短少了8.37億美元。

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  國際智慧財產權的檢索、查詢,幫助技術、競爭的情報蒐集,是企業能夠規劃出智財布局的優先前提。日本特許廳為提升「專利商標查詢平台」(J-PlatPat)之功能及查詢便利性,規劃就現有平台機能進行擴充,預計在2019年5月時,全面改版完成。特許廳本次J-PlatPat的改版,主要更新或擴充項目包括:將設計專利及商標於審查、審判階段之文件納入可查詢之範圍,並縮短資料上傳時間,使相關文件於上傳隔日即可查詢;增加商標存續狀態之呈現,並增加已廢止商標之檢索;採用人工智慧進行翻譯,提升翻譯品質等;亦針對關鍵字、搜尋結果排序、圖面之運用、設計專利之圖面呈現方式進行優化。   改版後之專利、商標檢索系統便利性,大幅提升,使用上亦毋需支付任何費用。日本特許廳J-PlatPat(https://www.j-platpat.inpit.go.jp/)是個免費的資源,我國企業、學界的智財實務工作者可善加運用此平台,更有效率地達成技術和競爭情報檢索,在專利、商標的國際性競爭中勝出。

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